[发明专利]用于溅射系统的玻璃托盘

说明书

用于将一个或多个玻璃基片在基本上垂直的取向上运输通过溅射系统的托盘。在一些情况下，托盘包括具有孔口的框架和所述孔口中的可调节网格阵列。所述可调节网格阵列是可配置地来固持不同形状和/或大小的多个玻璃基片。在一种情况下，所述可调节网格阵列包括垂直支撑杆和水平支撑杆的系统，其中所述垂直支撑杆被配置来都在所述多个玻璃基片的垂直边缘处将所述多个玻璃基片支撑，其中所述水平支撑杆被配置来在所述多个玻璃基片的水平边缘处将所述多个玻璃基片支撑，其中所述水平支撑杆的末端被可滑动地与所述垂直支撑杆接合。

相关申请的交叉引用

这是于2013年6月10日提交的名称为“GLASS PALLET FOR SPUTTERING SYSTEMS”的美国临时专利申请号61/833,366的非临时申请并且要求该美国临时专利申请的优先权，出于所有目的将该美国临时专利申请在此通过引用整体并入。

技术领域

本文公开的实施方案一般涉及溅射系统和方法，并且更具体地说涉及用于将基片固持在溅射系统中的托盘。更具体地说，本文公开的实施方案涉及用于固持玻璃(例如，用于窗户的玻璃)的托盘。

发明背景

大面积玻璃加工通常是在水平形式的加工设备上完成。常规的观点规定：由于大面积玻璃是从锡浮法生产线(其是水平系统)生产的，则玻璃的进一步加工应当自然地在水平位置中。此外，由于支撑大面积玻璃通过使用滚筒是很容易完成的，玻璃在许多点处被支撑在滚筒上，则自然地将玻璃沿着水平方向平移，玻璃在背部表面上的许多点处被始终支撑着。因此，尽管存在垂直地溅射大面积基片一些设备，在大面积玻璃基片上进行溅射被常规地水平地执行，例如使用基本上流水线物料板类型的具有滚筒的水平系统，其中流水线物料板被在水平线上倾斜一定角度但是小于90度，以使得玻璃当其移动通过溅射系统时通过重力仍搁置在滚筒上。还存在可以携带较小的基片通过溅射系统的托盘。然而，仍然保留对将适应大面积玻璃的托盘的需要，大面积玻璃具体地是较厚的重质玻璃或多个玻璃基片，甚至更具体地是不同大小和/或形状的多个玻璃基片。

发明概述

实施方案包括用于将一个或多个基片具体地是玻璃基片在基本上垂直的取向上运输通过溅射设备的托盘。本文描述的托盘提供了在携带不同大小和形状的一个或多个基片上的灵活性。

某些实施方案涉及用于将多个玻璃基片运输通过溅射设备的托盘。托盘包括具有孔口的框架和在孔口中的可调节网格阵列。可调节网格阵列是可配置地来固持不同形状和/或大小的多个玻璃基片，其中托盘被配置来固持多个玻璃基片，每个被通过至少两个边缘来固持，并且在运输通过溅射设备期间固持在基本上垂直的取向中。本文描述的托盘被配置来固持单个大玻璃基片或多个较小的玻璃基片，大玻璃基片例如在一个尺寸上是约60英寸与130英寸之间，并且在另一个尺寸上是约72英寸与约205英寸之间。

在一些实施方案中，用于将玻璃基片运输通过溅射设备的托盘包括框架和框架中的孔口。托盘被配置来通过至少两个边缘来固持玻璃基片，并且在运输通过溅射设备期间将玻璃基片固持在基本上垂直的取向中。在这些实施方案中，玻璃基片具有沿着一侧的在约60英寸与约130英寸之间的尺寸和沿着另一侧的在约72英寸与205英寸之间的尺寸，并且玻璃基片具有在约2mm与约20mm之间的厚度。

在某些实施方案中，托盘被配置来维持一个或多个基片上均匀的温度。例如，在一个实施方案中，托盘被配置来将它们的温度维持成在它们在溅射期间所携带的玻璃基片的温度的±5℃内。在某些实施方案中，托盘被配置来携带和/或吸收溅射设备中的热负载，以使得托盘的热剖面近似于托盘所携带的玻璃基片的热剖面。以这种方式，热膨胀和收缩率以及玻璃基片上的热剖面中的差异是基本上一样的。托盘可以被使用机械装置和任选的磁悬浮运输通过溅射系统。