[发明专利]偏光薄膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种使用黑化油墨制备的纳米偏光图案的形成方法，更为详细地涉及一种如下的方法：将含有黑化物质的功能性油墨涂覆在透明的图案基底上后，去除形成在凸起部上的粒子，与此同时在槽中再填充黑化油墨，从而形成由一张薄膜构成的识别性优异的纳米偏光薄膜。

此外，涉及一种如下的方法：在形成纳米偏光图案时使用高反射率油墨，从而对偏光薄膜赋予高亮度功能而节省能源，并且将构造为多张的偏光薄膜以一张薄膜一体化。更为详细地涉及一种如下的方法：将具有高反射率的功能性油墨涂覆在透明的纳米图案基底上后，去除形成在凸起部上的粒子，与此同时在槽中再填充高反射率油墨而形成一体型的具有高亮度功能的纳米偏光薄膜。

背景技术

最近，随着各种显示设备的轻量化及性能的发展，对偏光显示装置技术的要求逐渐增加。目前，将多种光学薄膜叠加后将其作为偏光薄膜来使用，以便根据用途适应反射及吸收等特性而使用。

目前，对于将构造为多层的偏光薄膜取代为一张薄膜的纳米偏光薄膜备受关注，这种技术在LCD及3D显示器等下一代的显示板材料和元件等中将有非常重要的应用。此外，对偏光薄膜赋予高亮度功能在节省能源的方面上很重要，并且还能起到绿色产业的核心材料的作用。

发明内容

技术问题

在以往的黑化偏光图案的形成中使用通过激光的后处理及利用高价的溅射工艺的方法等。本发明的目的是提供一种黑化纳米偏光图案的形成方法，该方法使用黑化油墨在偏光图案上进行涂覆后，将凸起部分选择性地蚀刻并对槽部进行再填充，以形成具有经济性和环保性的黑化纳米偏光薄膜。此外，提供一种黑化纳米偏光图案的形成方法，该方法能够调控所需的黑化度的程度，因此能够在无需额外的工艺的情况下满足各种黑化度。

此外，本发明的目的是提供一种高反射率纳米偏光薄膜的形成方法，该方法对以往的偏光薄膜赋予高亮度功能，以形成具有节能效果、经济性和环保性的高反射率纳米偏光薄膜。此外，提供一种纳米偏光薄膜的形成方法，该方法使用具有高反射率的功能性油墨在偏光图案上进行涂覆后，将凸起部分选择性地蚀刻并对槽部进行再填充，以形成具有高亮度功能的纳米偏光薄膜。

解决问题的方案

为了实现所述课题，本发明的实施例的黑化纳米偏光薄膜(玻璃)的形成方法的特征在于，包括步骤：设置形成有透明的偏光图案的基底，在所述偏光图案上涂覆黑化油墨；将涂覆有所述黑化物质的偏光图案的凸起部选择性地蚀刻后，再对槽部进行再填充。

此外，为了实现所述课题，本发明的实施例的高反射率纳米偏光薄膜(玻璃)的形成方法的特征在于，包括步骤：设置形成有偏光图案的基底，在所述偏光图案上涂覆具有高反射率的功能性油墨；将涂覆有所述黑化物质的偏光图案的凸起部选择性地蚀刻后，再对槽部进行再填充。

发明效果

根据本发明的偏光薄膜的制造方法，不使用通过激光的后处理或者溅射等高价的沉积工艺，能够利用黑化油墨(一液型或者二液型等)来形成黑化的偏光图案。

此外，不使用通过激光的后处理或者溅射等高价的沉积工艺，能够利用高反射率功能性油墨(一液型或者二液型等)来形成具有高亮度功能的纳米偏光图案。

此外，由于将选择性蚀刻的黑化物质再填充到图案的槽部，因此能够使用具有经济性和环保性的工艺。并且，能够通过调节黑化组合物理表示各种黑化度。

本发明的效果并不局限于以上所提及的效果，对于没有提及的其他效果，本发明所属领域的技术人员通过下面的记载应能清楚理解。

附图说明

图1～图5为依次表示本发明的一实施例的黑化偏光图案的制造方法的图式图。

图6为本发明的一实施例的填充有黑化改善油墨的偏光薄膜的SEM图像。

图7～图11为依次表示本发明的另一实施例的高反射率偏光薄膜的制造方法的图式图。

图12为本发明的另一实施例的填充有高反射率油墨组合物的纳米偏光薄膜的SEM图像。

具体实施方式

本发明的偏光薄膜的制造方法的特征在于，包括：一次填充步骤，用于在具有槽的基底的所述槽中填充黑化导电油墨组合物；及二次填充步骤，用于通过蚀刻液溶解在所述一次填充步骤中对所述槽填充所述黑化导电油墨组合物时残留在所述基底的表面上的残留黑化导电油墨组合物后，再对所述槽填充所述残留黑化导电油墨组合物。

所述黑化导电油墨组合物可包含导电物质及黑化物质。

所述导电物质可包含金属络合物、金属前体、球形金属粒子、金属薄片或者纳米粒子中的至少一种。