[发明专利]用于有机电子器件的基板

权利要求书

1.一种用于有机电子器件的基板，包括：

基底膜，所述基底膜具有的雾度为3至30％，且包括第一聚合物作为第一单元和包括第二聚合物作为第二单元，所述第一聚合物具有第一四羧酸二酐和第一二胺化合物的缩合单元或其酰亚胺化单元，所述第二聚合物具有第二四羧酸二酐和第二二胺化合物的缩合单元或其酰亚胺化单元，

其中所述第一四羧酸二酐和所述第二四羧酸二酐是芳族四羧酸二酐，和

其中所述基底膜对波长为550nm的光的折射率为1.8或更高。

2.如权利要求1所述的基板，其中第一单元和第二单元之间的折射率的差的绝对值为0.01或更大。

3.如权利要求1所述的基板，其中第一单元包含的极性官能团的摩尔数和第二单元包含的极性官能团的摩尔数之间的差的绝对值为2或更大。

4.如权利要求3所述的基板，其中所述极性官能团为卤素原子、卤代烷基基团、氰基基团、硝基基团、烷氧基基团、氰酸酯基团或硫代氰酸酯基团。

5.如权利要求1所述的基板，其中所述基底膜包括3至30重量份的第一单元，相对于100重量份的第二单元计。

6.如权利要求1所述的基板，其中所述基底膜的均方根(RMS)为5nm或更小。

7.如权利要求1所述的基板，其中基底膜中散射颗粒的比例为10wt％或更少。

8.如权利要求1所述的基板，还包括：

在基底膜表面上形成的高折射层，其对波长为550nm的光的折射率为1.7或更高。

9.如权利要求8所述的基板，其中所述高折射层是无机材料层。

10.如权利要求9所述的基板，其中所述无机材料层包括第一亚层和第二亚层的堆叠结构。

11.如权利要求10所述的基板，其中第一亚层和第二亚层的厚度各自为7nm或更小。

12.如权利要求10所述的基板，其中所述第一亚层的折射率是1.4至1.9，所述第二亚层的折射率是2.0至2.6。

13.一种有机电子器件，包括：

权利要求1所述的用于有机电子器件的基板；和

器件区，其具有第一电极层、有机材料层和第二电极层，所述第一电极层、有机材料层和第二电极层存在于基板的无机材料层上。

14.一种用于显示器的光源，包括：

权利要求13所述的有机电子器件。

15.一种照明装置，包括：

权利要求13所述的有机电子器件。