[发明专利]用于有机电子器件的基板有效

专利信息
申请号: 201480042230.2 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN105408948B 公开(公告)日: 2018-09-18
发明(设计)人: 金持凞;李政炯;朴祥准;金勇男 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: G09F9/00 分类号: G09F9/00;C09K11/06;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 有机 电子器件
【说明书】:

本申请涉及一种用于有机电子器件的基板。本申请可提供一种基板,其可用于制造通过具有合适的雾度而具有优异的物理性质(如透光率)的柔性器件,并且在需要时所述柔性器件可维持其他物理性质,如表面平滑度和折射率。

技术领域

本申请涉及一种用于有机电子器件的基板及其用途。

背景技术

有机电子器件(OED)的类型包括有机发光器件(OLED)、有机太阳能电池、有机光导体(OPC)或有机晶体管。例如,传统OED依次包括玻璃基板、透明电极层、包括发光单元的有机层和反射电极层。

在称作底部发光器件(bottom emitting device)的结构中,所述透明电极层可形成为透明电极层,且所述反射电极层可形成为反射电极层。此外,在称作顶部发光器件(topemitting device)的结构中,所述透明电极层可形成为反射电极层,且所述反射电极层可形成为透明电极层。电子(electron)和空穴(hole)由电极层被注入,并在发光单元中重新结合(recombine),从而产生光。在底部发光器件中,所述光可被发射至基板;在顶部发光器件中,所述光可被发射至反射电极层。

在由有机层发射出的光中,部分在临界角入射到各层的界面处的一部分光或更多光由于全内反射(total internal reflection)而不被发射和捕获,因而仅发射非常少量的光。因此,例如,如专利文献1所公开,试图提高光提取效率。然而,目前已知的光提取技术通常使用硬质基板如玻璃基板,因此不被有效地应用于使用具有与玻璃基板不同的性质的柔性(flexible)基板的器件中。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第3861758号

发明内容

技术问题

本申请旨在提供一种可用于制造柔性器件的基板,所述柔性器件具有合适的雾度和优异的物理性质,如光提取效率,并且在需要时其还具有其他优异的物理性质,如表面平滑度和折射率。

技术方案

一方面,OED的示例性基板可包括聚酰亚胺膜作为基底膜。所述聚酰亚胺膜可通过使用最少量的光散射颗粒或不使用光散射颗粒来产生雾度。因此,聚酰亚胺与一般的雾度塑料膜相比可具有优异的平滑度,并在OED中显示出优异的作用。由于聚酰亚胺膜的折射率可根据需要自由调整,因而其还能根据用途实现传统塑料膜难以实现的高折射率。在需要时,除基底膜外,基板还可包括高折射层。

通常,聚酰亚胺通过下述过程制备:通过四羧酸二酐和二胺化合物的缩合反应制备聚酰胺酸,然后将该酰胺酸进行酰亚胺化。因此,本申请的聚酰亚胺基底膜还可包括二酐和二胺化合物的缩合单元(即聚酰胺酸单元)、或其酰亚胺化单元(即聚酰亚胺单元)。

在本申请中,上述雾度和折射率中的至少一种可使用至少两种包括在聚酰亚胺基底膜中的单元进行调整。因此,聚酰亚胺基底膜可包括第一四羧酸二酐和第一二胺化合物的缩合单元或其酰亚胺化单元作为第一单元,以及第二四羧酸二酐和第二二胺化合物的缩合单元或其酰亚胺化单元作为第二单元。

在基底膜中,第一单元和第二单元可存在于一种聚合物或不同聚合物中。也就是说,基底膜可包括含有第一单元和第二单元的共聚物,或者包括含有第一单元的聚合物和含有第二单元的聚合物。此外,第一单元和第二单元各自可为包括在预定聚合物(predetermined polymer)或聚合物中的链。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480042230.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top