[发明专利]用于辐射源的部件、关联的辐射源和光刻设备有效

专利信息
申请号: 201480042235.5 申请日: 2014-06-17
公开(公告)号: CN105408817B 公开(公告)日: 2018-11-02
发明(设计)人: H-K·尼恩惠斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05G2/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 辐射源 部件 关联 光刻 设备
【权利要求书】:

1.一种用于辐射源的部件,所述辐射源能够操作以由燃料产生辐射,所述部件实现为屏蔽元件,所述屏蔽元件用于保护燃料液滴免受所述辐射源内的气流影响,所述屏蔽元件具有至少一个表面,所述至少一个表面包括对于所述燃料具有高润湿性的多个第一区域,所述多个第一区域由对于所述燃料具有低润湿性的第二区域隔开。

2.如权利要求1所述的部件,其中所述燃料是液体锡。

3.如权利要求1所述的部件,其中所述表面是所述源的内表面。

4.如权利要求1所述的部件,其中所述屏蔽元件的内表面包括由所述第二区域隔开的所述第一区域,所述内表面为与燃料液滴相邻的表面。

5.如权利要求4所述的部件,其中所述屏蔽元件的外表面包括由所述第二区域隔开的所述第一区域,所述外表面为与所述内表面相反的表面。

6.如权利要求4所述的部件,其中所述屏蔽元件的一个或多个边缘表面包括所述第一区域。

7.如前述权利要求中任一项所述的部件,其中高润湿性的区域被定义为燃料在材料表面上的接触角小于90度的区域。

8.如权利要求1至6中任一项所述的部件,其中所述部件基本上由第一材料构成,所述第一材料对于所述燃料具有低润湿性,并且其中所述第一区域包括涂覆在所述第一材料的表面上的第二材料的区域,并且所述第二区域包括所述第一材料的未被覆盖的区域。

9.如权利要求8所述的部件,其中所述第一材料是氧化铝。

10.如权利要求8所述的部件,其中所述第二材料为对于它所操作的操作条件在操作过程中不会在其表面上形成氧化层的类型的材料。

11.如权利要求8所述的部件,其中所述第二材料为具有超过750摄氏度的熔点的金属材料。

12.如权利要求11所述的部件,其中所述第二材料是钨或钼。

13.如权利要求1至6中任一项所述的部件,包括加热元件,用于将所述部件加热至足够蒸发所述燃料的温度。

14.一种辐射源,包括:

液滴生成器,用于向等离子体生成部位提供燃料液滴;

辐射收集器,用于收集和聚焦由所述燃料液滴在所述等离子体生成部位的激发而形成的等离子体所产生的辐射;和

一个或多个如前述权利要求中任一项所述的部件。

15.如权利要求14所述的辐射源,其中由等离子体产生的所述辐射为具有小于20nm的波长的辐射。

16.如权利要求14或15所述的辐射源,其中所述部件被定位成平行于由液滴占据的在液滴生成器和等离子体生成部位之间的路径或该路径的一部分,使得所述部件邻近所述液滴生成器的输出,并且位于辐射源内的气流的源和所述路径之间。

17.一种光刻设备,包括如权利要求14至16中任一项所述的辐射源,并且所述光刻设备能够操作以在光刻处理中使用由辐射源产生的辐射,以在衬底的目标部分上形成结构。

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