[发明专利]非磁性基板的制造方法有效
申请号: | 201480042445.4 | 申请日: | 2014-09-29 |
公开(公告)号: | CN105408062B | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 东修平;大西胜;舆水修 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | B24B37/00 | 分类号: | B24B37/00;B24B1/00;B24B9/00;G11B5/84 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 李辉,黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁性 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种非磁性基板的制造方法,具体涉及一种包括对非磁性基板的端面进行研磨的工序的基板制造方法。
背景技术
当前,个人电脑、笔记本电脑或者DVD(Digital Versatile Disc)记录装置等中内置有用于记录数据的硬盘装置。尤其,在用于笔记本电脑等以便携性为前提的设备中的硬盘装置中,采用磁盘用玻璃基板上设有磁性层的磁盘。在磁盘面上,通过从该面略微浮起后的磁头(DFH(Dynamic Flying Height)头)在磁盘的磁性层上记录或读取磁记录信息。在该磁盘的基板中,与金属基板等相比具有难以塑性变形的性质,因此玻璃基板适合作为非磁性基板使用。
当前,应硬盘装置中的存储容量增大的要求,寻求磁记录的高密度化。伴随于此,使磁头的距离磁记录面的浮起距离极度缩小,并使磁记录信息区域微型化。在这样的磁盘用玻璃基板中,基板的表面凹凸被制造得尽可能地小。
在用于硬盘装置的磁头中,如果磁盘的表面存在微小的凹凸,则可能产生公知的热粗糙(Thermal Asperity)障碍,再现中产生误动作,或者不能再现。该热粗糙障碍的原因在于由玻璃基板上的异物而在磁盘的表面形成的凸部由于磁盘的高速旋转使磁头附近的空气发生绝热压缩及绝热膨胀,磁头发热。即,热粗糙障碍也能发生在磁头不接触磁盘的情况下。
因此,为了防止该热粗糙障碍,磁盘的表面必须极为平滑且精加工成无异物的高清洁化的面。
作为磁盘用玻璃基板的表面上附着有异物的原因,考虑到不仅有玻璃基板的表面形状,还有玻璃基板的端面的表面形状。即,在磁盘用玻璃基板的端部尖锐的情况下或者端面的表面形状不平滑的情况下,端部磨损树脂制壳体的壁面等,由于该磨损,产生树脂或玻璃的微粒(颗粒)。并且,这样的微粒或环境下的微粒被捕捉并积存在磁盘用玻璃基板的端面。积存在磁盘用玻璃基板的端面的微粒在后道工序中或者在装配于硬盘装置后,成为灰尘来源,成为光盘基板的表面上附着有异物的原因。
因此,在制造磁盘用玻璃基板时,在圆形的玻璃基板的主表面与侧壁面之间形成倒角面,并进行研磨侧壁面和倒角面的处理。
另外公知以下这样的磁力研磨方法:在铝或玻璃等非磁性材料的被加工面上依次载置磁感应性研磨剂和第1磁铁,并在非磁性材料的下方配置第2磁铁,使第1磁铁经由与上述第2磁铁之间产生的磁力在被加工面的上方一边自转一边公转,使磁感应性研磨剂相对于被加工面相对运动(专利文献1)。一般认为这样的磁力研磨方法能够以简单的方法同时提高被加工面的面精度和形状精度。
此外,作为研磨圆形的玻璃基板的端面的方法,公知有磁力研磨法。例如专利文献2中记载了用以下这样的磁力研磨法进行研磨:在研磨玻璃基板的内周端面的工序中,在中央的圆孔的内周侧形成磁场,利用磁场使含有磁性微粒和研磨磨粒的研磨剂保持在该圆孔内,使磁场相对于圆孔的内周侧端面移动,由此使研磨剂相对于圆孔的内周侧端面移动,从而研磨圆孔的内周侧端面。根据这样的磁力研磨法,一般认为能够简单且良好地对玻璃基板的中心部的圆孔的内周侧端面进行研磨。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2008-290162号公报
专利文献2:日本特开2005-50501号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本申请的发明人确认:利用磁场生成单元,以磁力线沿所述玻璃基板的厚度方向延伸的方式形成磁场,使含有研磨磨粒的磁功能性流体保持在该磁场中,在使玻璃基板的端面与磁功能性流体接触的状态下使其相对于磁功能性流体相对移动,由此进行玻璃基板端面的研磨处理,能够得到加工速率快且端面的表面性状优异的产品。
但是已知的是,在以多个玻璃基板为对象而通过纸张式的处理连续进行上述端面研磨处理的情况下,尤其倒角面的加工速率逐渐降低。该问题不限于玻璃基板,对于采用其他材料(例如铝合金)的非磁性基板也同样会产生。
因此,本发明目的在于提供一种基板的制造方法,能够在连续研磨基板的端面时抑制倒角面的加工速率降低。
用于解决课题的手段
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