[发明专利]将物场成像于像场的投射光学单元以及包含这种投射光学单元的投射曝光设备有效

专利信息
申请号: 201480042509.0 申请日: 2014-07-25
公开(公告)号: CN105408796B 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: M.施瓦布 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G02B17/06 分类号: G02B17/06;G21K5/00;G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 将物场 成像 投射 光学 单元 以及 包含 这种 曝光 设备
【权利要求书】:

1.一种将物场(4)成像至像场(8)中的投射光学单元(7;20;21;22;23;24;25;26;27;28;29;30),

-包含多个反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M11),用于将来自所述物场(4)的成像光(3)引导至所述像场(8),

-其中,所述反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M11)中的至少两个实施为用于所述成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3;M5、M6;M1、M2;M1、M2、M3;M3、M4;M6、M7;M4、M5;M2至M6;M1至M4;M6至M9),其在所述成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个,

其中所述投射光学单元是遮挡的光学单元。

2.如权利要求1所述的投射光学单元,其特征在于精确的两个用于掠入射的反射镜(M1、M2)。

3.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于物面(5),其中布置所述物场(4),所述物面与其中布置所述像场(8)的像面(9)包括不同于0°的角度。

4.如权利要求1所述的投射光学单元,其特征在于精确的四个用于掠入射的反射镜(M2、M3、M5、M6)。

5.如权利要求4所述的投射光学单元,其特征在于,所述四个用于掠入射的反射镜(M2、M3、M5、M6)形成两个反射镜对,并且每个反射镜对中的反射镜在所述成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。

6.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于,至少两个用于所述成像光(3)的入射角小于45°的法线入射的反射镜(M1、M4、M7、M8;M3至M6;M4至M7;M2、M5、M8、M9;M1、M3、M6、M7;M1、M7、M8;M5、M10、M11)。

7.如权利要求6所述的投射光学单元,其特征在于,四个用于所述成像光(3)的入射角小于45°的法线入射的反射镜(M1、M4、M7、M8;M3至M6;M4至M7)。

8.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于所述投射光学单元(7;20;21)的大于9%的总反射率,其呈现为所述投射光学单元(7;20;21;22;23;24;25;26;27;28;29;30)的所有反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M11)的反射率的乘积。

9.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于,所述反射镜中的至少一个具有形式为自由形式表面的反射表面。

10.如权利要求9所述的投射光学单元,其特征在于方向依赖性的物侧数值孔径。

11.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于,

-具有至少0.4的像侧数值孔径,

-场中心点的物侧主光线角(CRAO)小于7°,

其中,所述像场(8)沿着场维度(x)具有多于13mm的范围。

12.如权利要求11所述的投射光学单元,其特征在于,数值孔径为至少0.5。

13.如权利要求11所述的投射光学单元,其特征在于,所述像场(8)在一个场维度(x)中的范围多于20mm。

14.如权利要求9所述的投射光学单元,其特征在于具有光阑边缘的光阑(18),其沿着较短物场维度(y)的范围比沿着较长物场维度(x)的小。

15.一种光学系统,包含如权利要求1至14中任一项所述的投射光学单元和用照明光及成像光(3)照明所述物场(4)的照明光学单元(6)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司,未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480042509.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top