[发明专利]将物场成像于像场的投射光学单元以及包含这种投射光学单元的投射曝光设备有效
申请号: | 201480042509.0 | 申请日: | 2014-07-25 |
公开(公告)号: | CN105408796B | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | M.施瓦布 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06;G21K5/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 将物场 成像 投射 光学 单元 以及 包含 这种 曝光 设备 | ||
1.一种将物场(4)成像至像场(8)中的投射光学单元(7;20;21;22;23;24;25;26;27;28;29;30),
-包含多个反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M11),用于将来自所述物场(4)的成像光(3)引导至所述像场(8),
-其中,所述反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M11)中的至少两个实施为用于所述成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3;M5、M6;M1、M2;M1、M2、M3;M3、M4;M6、M7;M4、M5;M2至M6;M1至M4;M6至M9),其在所述成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个,
其中所述投射光学单元是遮挡的光学单元。
2.如权利要求1所述的投射光学单元,其特征在于精确的两个用于掠入射的反射镜(M1、M2)。
3.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于物面(5),其中布置所述物场(4),所述物面与其中布置所述像场(8)的像面(9)包括不同于0°的角度。
4.如权利要求1所述的投射光学单元,其特征在于精确的四个用于掠入射的反射镜(M2、M3、M5、M6)。
5.如权利要求4所述的投射光学单元,其特征在于,所述四个用于掠入射的反射镜(M2、M3、M5、M6)形成两个反射镜对,并且每个反射镜对中的反射镜在所述成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。
6.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于,至少两个用于所述成像光(3)的入射角小于45°的法线入射的反射镜(M1、M4、M7、M8;M3至M6;M4至M7;M2、M5、M8、M9;M1、M3、M6、M7;M1、M7、M8;M5、M10、M11)。
7.如权利要求6所述的投射光学单元,其特征在于,四个用于所述成像光(3)的入射角小于45°的法线入射的反射镜(M1、M4、M7、M8;M3至M6;M4至M7)。
8.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于所述投射光学单元(7;20;21)的大于9%的总反射率,其呈现为所述投射光学单元(7;20;21;22;23;24;25;26;27;28;29;30)的所有反射镜(M1至M8;M1至M6;M1至M7;M1至M9;M1至M11)的反射率的乘积。
9.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于,所述反射镜中的至少一个具有形式为自由形式表面的反射表面。
10.如权利要求9所述的投射光学单元,其特征在于方向依赖性的物侧数值孔径。
11.如权利要求1或2所述的投射光学单元,其特征在于,
-具有至少0.4的像侧数值孔径,
-场中心点的物侧主光线角(CRAO)小于7°,
其中,所述像场(8)沿着场维度(x)具有多于13mm的范围。
12.如权利要求11所述的投射光学单元,其特征在于,数值孔径为至少0.5。
13.如权利要求11所述的投射光学单元,其特征在于,所述像场(8)在一个场维度(x)中的范围多于20mm。
14.如权利要求9所述的投射光学单元,其特征在于具有光阑边缘的光阑(18),其沿着较短物场维度(y)的范围比沿着较长物场维度(x)的小。
15.一种光学系统,包含如权利要求1至14中任一项所述的投射光学单元和用照明光及成像光(3)照明所述物场(4)的照明光学单元(6)。
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