[发明专利]将物场成像于像场的投射光学单元以及包含这种投射光学单元的投射曝光设备

说明书

一种适用于将物场(4)成像于像场(8)中的投射光学单元(7)。多个反射镜(M1至M8)适用于将来自物场(4)的成像光(3)引导至像场(8)。反射镜(M1至M8)中的至少两个实施为用于成像光(3)的入射角大于60°的掠入射的反射镜(M2、M3；M5、M6)，其在成像光(3)的光束路径中布置为一个直接接着另一个。这导致具有良好校正的可成像场且同时具有高成像光通量的成像光学单元。

相关申请的交叉引用

通过引用，将德国专利申请第10 2013 214 770.8号，第10 2014 203 190.7号以及第10 2014 208 770.8的内容并入本文。

技术领域

本发明涉及一种将物场成像于像场的投射光学单元。此外，本发明涉及一种包含此投射光学单元的光学系统，一种包含此光学系统的投射曝光设备，一种使用此投射曝光设备制造微结构化或纳米结构化部件的方法和一种通过此方法制造的微结构化或纳米结构化部件。

背景技术

一开始所提类型的投射光学单元请见DE 10 2012 202 675 A1、DE 10 2009 011328 A1、US 8 027 022 B2及US 6 577 443 B2。投射曝光设备的照明光学单元请见DE 102009 045 096 A1。

发明内容

本发明的目的在于开发一开始所提类型的投射光学单元，使得这导致良好校正的可成像场且同时具有高成像光通量(throughput)。

根据本发明，该目的通过包含如权利要求1所述的特征的投射光学单元，以及通过包含如权利要求10所述的特征的EUV投射光学单元来实现。

根据本发明，已发现的是，投射光学单元内布置为一个直接接着另一个的用于掠入射的两个反射镜导致可设计具有高成像光通量的投射光学单元，所述高成像光通量在要成像的整个场上是均匀的，其中同时还提供通过具有掠入射的反射镜校正像场中的像的自由度。

投射光学单元的反射镜可承载增加成像光反射率的涂层。钌和/或钼可用作这些涂层的涂层材料。

用于掠入射的反射镜可具有位于75％和95％之间的范围中的反射率，且此反射率尤其可以是至少80％。用于掠入射的反射镜可具有线性地取决于入射角的反射率。这种线性依赖性可通过使用至少一个用于掠入射的其它反射镜来补偿，该至少一个用于掠入射的其它反射镜同样具有反射率对入射角的相应线性依赖性。投射光学单元适合于EUV波长的成像光，尤其是在5nm和30nm之间的范围中的波长。成像光在用于掠入射的反射镜上的入射角可大于65°、可大于70°、可大于72°、可大于75°、可大于80°或还可大于85°。

投射光学单元可实施为成像反射式掩模母版的一部分。为此，中央物场点的主光线可包括与物面法线呈大于3°和例如等于5.5°的角度。

至少两个用于掠入射的反射镜之一可以是投射光学单元在成像光束路径中在物场下游的第一反射镜。用于掠入射的反射镜可具有偏离平表面的反射表面，并且尤其可具有校正图像像差的表面形状。用于掠入射的反射镜的反射表面可实施为非球面表面或为无旋转对称性的自由形式表面(free-form surface)。

在用于掠入射的反射镜上，中间像面可布置在反射区域中。这导致成像光束在用于掠入射的反射镜的区域中的有利压缩(constriction)，并且因此避免用于掠入射的反射镜需要非期望的大反射表面。

投射光学单元可实施为反射式光学单元。

投射光学单元可包含至少一个反射镜，其具有用于照明光的通道开口。投射光学单元可实施为遮挡的光学单元(obscured optical unit)。

替代地，投射光学单元还可实施为使得投射光学单元的所有反射镜的反射表面被全部使用到。投射光学单元可实施为无遮挡的光学单元。