[发明专利]弹性波装置、电子部件、及弹性波装置的制造方法在审
申请号: | 201480043995.8 | 申请日: | 2014-08-11 |
公开(公告)号: | CN105453426A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 三轮祐司;角居圣;安田润平;菊知拓;山崎央 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H03H9/25 | 分类号: | H03H9/25;H03H3/08;H03H9/145 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李逸雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 弹性 装置 电子 部件 制造 方法 | ||
1.一种弹性波装置,具备:
压电基板;
IDT电极,其被设置于所述压电基板;
焊盘,其被设置于所述压电基板;
布线,其被设置于所述压电基板且连接所述IDT电极与所述焊盘;
第1电介质层,其在所述压电基板上被设置成覆盖所述IDT电极的至少一部分且不覆盖所述布线上及所述焊盘上;
下凸块金属,其被设置于所述焊盘;和
第2电介质层,其在所述压电基板上被设置成覆盖所述焊盘的一部分、所述布线及所述第1电介质层且不覆盖所述下凸块金属,
所述IDT电极的至少一部分由第1导电膜构成,
所述布线的至少一部分由层叠体构成,该层叠体具有所述第1导电膜及被层叠于所述第1导电膜上的第2导电膜,
所述焊盘的至少一部分由所述第2导电膜构成,
所述第2电介质层在所述压电基板上被设置成覆盖所述第2导电膜与所述下凸块金属的接触区域以外的区域。
2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,
所述第2电介质层被形成为自所述第2导电膜的表面起连续地覆盖所述第1电介质层的表面。
3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,
所述第2电介质层在位于所述IDT电极上的所述第1电介质层的表面被形成为平坦状。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的弹性波装置,其特征在于,
与所述第1电介质层的材料相比,所述第2电介质层的材料的弹性波传播的速度快。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的弹性波装置,其特征在于,
与所述第1电介质层的材料相比,所述第2电介质层的材料的水分透过率小。
6.一种电子部件,包括权利要求1~5中任一项所述的弹性波装置,其中,
该电子部件除所述弹性波装置之外,还具有:
安装基板,其用于安装所述弹性波装置;和
焊料,其被设置在所述弹性波装置与所述安装基板之间,
所述焊料不与所述弹性波装置的第2导电膜接触而与下凸块金属接触。
7.一种弹性波装置的制造方法,是权利要求1~5中任一项所述的弹性波装置的制造方法,其中,
该弹性波装置的制造方法具备:
第1导电膜形成工序,在压电基板形成第1导电膜;
第1电介质层形成工序,在所述压电基板上形成第1电介质层,以便覆盖所述第1导电膜;
第1开口形成工序,在所述第1电介质层形成第1开口,以使所述第1导电膜的一部分露出;
第2导电膜形成工序,在所述第1开口形成第2导电膜;
第2电介质层形成工序,形成第2电介质层,以便覆盖所述第1电介质层及所述第2导电膜;
第2开口形成工序,在所述第2电介质层形成第2开口,以使所述第2导电膜的一部分露出;以及
下凸块金属形成工序,在所述第2开口形成下凸块金属。
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