[发明专利]弹性波装置、电子部件、及弹性波装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480043995.8 申请日: 2014-08-11
公开(公告)号: CN105453426A 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 三轮祐司;角居圣;安田润平;菊知拓;山崎央 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H03H9/25 分类号: H03H9/25;H03H3/08;H03H9/145
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李逸雪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 弹性 装置 电子 部件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种弹性波装置,具备:

压电基板;

IDT电极,其被设置于所述压电基板;

焊盘,其被设置于所述压电基板;

布线,其被设置于所述压电基板且连接所述IDT电极与所述焊盘;

第1电介质层,其在所述压电基板上被设置成覆盖所述IDT电极的至少一部分且不覆盖所述布线上及所述焊盘上;

下凸块金属,其被设置于所述焊盘;和

第2电介质层,其在所述压电基板上被设置成覆盖所述焊盘的一部分、所述布线及所述第1电介质层且不覆盖所述下凸块金属,

所述IDT电极的至少一部分由第1导电膜构成,

所述布线的至少一部分由层叠体构成,该层叠体具有所述第1导电膜及被层叠于所述第1导电膜上的第2导电膜,

所述焊盘的至少一部分由所述第2导电膜构成,

所述第2电介质层在所述压电基板上被设置成覆盖所述第2导电膜与所述下凸块金属的接触区域以外的区域。

2.根据权利要求1所述的弹性波装置,其中,

所述第2电介质层被形成为自所述第2导电膜的表面起连续地覆盖所述第1电介质层的表面。

3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置,其中,

所述第2电介质层在位于所述IDT电极上的所述第1电介质层的表面被形成为平坦状。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的弹性波装置,其特征在于,

与所述第1电介质层的材料相比,所述第2电介质层的材料的弹性波传播的速度快。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的弹性波装置,其特征在于,

与所述第1电介质层的材料相比,所述第2电介质层的材料的水分透过率小。

6.一种电子部件,包括权利要求1~5中任一项所述的弹性波装置,其中,

该电子部件除所述弹性波装置之外,还具有:

安装基板,其用于安装所述弹性波装置;和

焊料,其被设置在所述弹性波装置与所述安装基板之间,

所述焊料不与所述弹性波装置的第2导电膜接触而与下凸块金属接触。

7.一种弹性波装置的制造方法,是权利要求1~5中任一项所述的弹性波装置的制造方法,其中,

该弹性波装置的制造方法具备:

第1导电膜形成工序,在压电基板形成第1导电膜;

第1电介质层形成工序,在所述压电基板上形成第1电介质层,以便覆盖所述第1导电膜;

第1开口形成工序,在所述第1电介质层形成第1开口,以使所述第1导电膜的一部分露出;

第2导电膜形成工序,在所述第1开口形成第2导电膜;

第2电介质层形成工序,形成第2电介质层,以便覆盖所述第1电介质层及所述第2导电膜;

第2开口形成工序,在所述第2电介质层形成第2开口,以使所述第2导电膜的一部分露出;以及

下凸块金属形成工序,在所述第2开口形成下凸块金属。

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