[发明专利]半导体物理量传感器有效
申请号: | 201480045444.5 | 申请日: | 2014-08-08 |
公开(公告)号: | CN105474404B | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | 片冈万士;荻原淳;牛山直树;城石久德 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | H01L29/84 | 分类号: | H01L29/84;G01L9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 齐秀凤 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 物理量 传感器 | ||
半导体物理量传感器(10)具备:第1基材(20);电极(60),其被形成在第1基材(20)上;隔膜(50),其根据从外部施加的物理量而弯曲;第2基材(30),其将隔膜(50)支承为相对于电极(60)而隔着空间(S)相对,并且该第2基材被固定于第1基材(20);和绝缘体(40),其被形成在隔膜(50)的第1基材(20)侧的面(50a)。并且,在绝缘体(40)与电极(60)之间形成了划分出空间(S)的壁部(41)。
技术领域
本发明涉及半导体物理量传感器。
背景技术
以往,作为半导体物理量传感器,已知如下的半导体物理量传感器, 即,在基板的上表面形成电极,并且将隔膜配置成隔着空间而与电极相对 (例如参照专利文献1)。
在该专利文献1中,根据从外部施加的物理量而使隔膜弯曲,由此使 半导体物理量传感器的静电电容发生变化,通过检测该静电电容的变化而 能够检测物理量的变化。
进而,设置绝缘体以覆盖形成于基板上表面的电极,使得通过该绝缘 体而能够抑制电极和隔膜的接触所引起的短路。此时,对绝缘体实施热处 理而使之发生变形,由此来消除在电极的缘部形成的隆起部分,使绝缘体 上表面变得大致平坦。
在先技术文献
专利文献
专利文献1:JP特表平10-509241号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而,在上述现有技术中,由于热处理而有时绝缘体的厚度会变化, 因此难以进行绝缘体的厚度控制,从而难以提高检测精度。
为此,本发明的目的在于,获得能够进一步提高检测精度的半导体物 理量传感器。
用于解决课题的手段
本发明的第1特征的主旨在于,半导体物理量传感器具备:第1基材; 电极,其被形成在所述第1基材上;隔膜,其根据从外部施加的物理量而 弯曲;第2基材,其将所述隔膜支承为隔着空间而与所述电极相对,并且 该第2基材被固定于所述第1基材;和绝缘体,其被形成在所述隔膜的所 述第1基材侧的面,在所述绝缘体与所述电极之间形成有划分出所述空间 的壁部。
本发明的第2特征的主旨在于,所述壁部包含从所述绝缘体以及所述 电极之中的至少任一方朝向另一方侧突出的突部。
本发明的第3特征的主旨在于,所述绝缘体为氧化硅膜。
本发明的第4特征的主旨在于,所述绝缘体为氮化硅膜。
本发明的第5特征的主旨在于,所述电极由金属材料形成。
本发明的第6特征的主旨在于,所述电极利用铬、铝、钛铝合金以及 铝合金之中的至少任一种材料来形成。
本发明的第7特征的主旨在于,所述电极具有与所述隔膜相对的电极 主体、和被延伸设置至所述空间的外侧的延伸设置部。
本发明的第8特征的主旨在于,所述延伸设置部利用铬、铝、钛铝合 金以及铝合金之中的至少任一种材料来形成。
本发明的第9特征的主旨在于,所述电极主体和所述延伸设置部由不 同的材料形成。
本发明的第10特征的主旨在于,在所述延伸设置部设置有由含铝的 材料形成的电极焊盘。
本发明的第11特征的主旨在于,半导体物理量传感器具备:第1基 材;电极,其被形成在所述第1基材上;隔膜,其根据从外部施加的物理 量而弯曲;第2基材,其将所述隔膜支承为隔着空间而与所述电极相对, 并且该第2基材被固定于所述第1基材;和外部取出用的电极焊盘,其被 形成在所述电极的一部分,所述电极由铬、铝、钛铝合金以及铝合金之中的至少任一种材料形成,所述电极焊盘由含铝的材料形成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480045444.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:盖式检验试管
- 下一篇:高耐压半导体装置及其制造方法
- 同类专利
- 专利分类