[发明专利]印刷用掩膜以及使用该掩膜的印刷方法无效
申请号: | 201480047941.9 | 申请日: | 2014-08-27 |
公开(公告)号: | CN105492215A | 公开(公告)日: | 2016-04-13 |
发明(设计)人: | 水村通伸 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | B41N1/24 | 分类号: | B41N1/24;B41M1/12;H05K3/12 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;青炜 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印刷 用掩膜 以及 使用 方法 | ||
1.一种印刷用掩膜,其特征在于,具备:
掩膜基材,其具有形成于印刷面侧并与待印刷的图案相对应的印刷 槽图案、与贯通于该印刷槽图案的底面且内径小于其底面宽度的贯通 孔;以及
保持部件,其层叠于所述掩膜基材并具有经由所述掩膜基材的贯通 孔而与所述印刷槽图案内连通以填充转印材料的开口图案,
所述印刷槽图案在所述贯通孔以外的周边区域连接。
2.根据权利要求1所述的印刷用掩膜,其特征在于,
所述贯通孔在所述印刷槽图案的底面设置有多个。
3.根据权利要求1或2所述的印刷用掩膜,其特征在于,
所述掩膜基材由树脂膜构成,所述保持部件由片状且所述开口图案 在长边方向以及短边方向的至少一方以规定间距形成的磁性金属材料 构成。
4.根据权利要求1或2所述的印刷用掩膜,其特征在于,
还具备制版框,其包围所述掩膜基材与所述保持部件的周围而拉伸 设置所述掩膜基材与所述保持部件。
5.根据权利要求3所述的印刷用掩膜,其特征在于,
还具备制版框,其包围所述掩膜基材与所述保持部件的周围而拉伸 设置所述掩膜基材与所述保持部件。
6.一种印刷方法,其使用印刷用掩膜来进行印刷,所述印刷用掩 膜具备:掩膜基材,其具有形成于印刷面侧并与待印刷的图案相对应的 印刷槽图案、与贯通于该印刷槽图案的底面且内径小于其底面宽度的贯 通孔;以及保持部件,其层叠于所述掩膜基材并具有经由所述掩膜基材 的贯通孔而与所述印刷槽图案内连通以填充转印材料的开口图案,所述 印刷槽图案在所述贯通孔以外的周边区域连接,
所述印刷方法的特征在于,包括:
在被印刷物的印刷面上配置并固定所述印刷用掩膜的印刷面的工 序、
在所述保持部件涂覆转印材料并从所述保持部件的开口图案经由 所述掩膜基材的贯通孔向所述印刷槽图案内填充转印材料的工序、
使所述掩膜基材的印刷槽图案内的转印材料覆盖于所述被印刷物 而转印图案的工序、以及
将所述印刷用掩膜从所述被印刷物剥离的工序。
7.根据权利要求6所述的印刷方法,其特征在于,
所述保持部件由片状的磁性金属材料构成,配置并固定所述印刷用 掩膜的印刷面的工序从与所述被印刷物的印刷面相反的一侧由磁力吸 引并固定。
8.根据权利要求6或7所述的印刷方法,其特征在于,
所述转印材料包括光致抗蚀剂,在所述被印刷物印刷形成光致抗蚀 剂的图案。
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