[发明专利]图案形成方法以及使用该方法的触摸面板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及图案形成方法以及触摸面板的制造方法，详细而言，涉 及如下图案形成方法以及触摸面板的制造方法，即，想要通过使用多个 溅射用掩膜合成溅射成膜的图案而形成单一的图案，从而不需要曝光工 序以及显影工序地将制造简单化，并且不需要曝光装置以及显影装置地 减少设备的成本。

背景技术

现有的静电电容型触摸面板由金属膜、绝缘膜、透明电极膜等构成， 检测出指尖的静电电容，从而通过X、Y坐标检测出接触了面板内的哪 个位置。上述金属膜、绝缘膜以及透明电极膜的图形化如以下那样进行。 在对各膜进行成膜并且在膜上涂覆有光致抗蚀剂后，进行曝光以及显影 从而形成光致抗蚀剂的图案。将该图形化的光致抗蚀剂作为掩膜对各膜 进行蚀刻(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2011-197754号公报

但是，上述现有的图案形成方法需要向成为图形化的对象的膜涂覆 光致抗蚀剂的涂敷工序、曝光工序、显影工序、蚀刻工序以及光致抗蚀 剂的剥离工序。另外，使用了上述现有的图案形成方法的触摸面板的制 造方法相对于金属膜、绝缘膜以及透明电极膜彼此，需要反复进行如上 所述的繁杂且工序数多的光学加工。并且，由于使用曝光装置与显影装 置的光学生产线，所以存在设备投资以及运行成本也变大这一问题。

发明内容

因此，对应于该问题点，本发明所要解决的课题在于提供如下图案 形成方法以及使用了该方法的触摸面板的制造方法，即，通过使用多个 溅射用掩膜合成溅射成膜的图案而形成单一的图案，从而不需要曝光工 序与显影工序而将制造简单化，并且不需要曝光装置以及显影装置而减 少设备的成本。

为了解决上述课题，本发明的图案形成方法使用具有对形成于对象 物面上的图案进行了分割的开口图案的多个溅射用掩膜进行多次溅射 成膜，并且合成通过上述多个溅射用掩膜分别成膜了的图案而形成单一 的图案。

另外，上述开口图案也可以被沿图案的长度方向分割。

并且，上述单一的图案也可以是形成于对象物面上的图案的至少一 部分。

此外，上述多个溅射用掩膜也可以分别具备具有上述开口图案的掩 膜片与包围该掩膜片的周围并且供该掩膜片张设的框体。

另外，上述掩膜片也可以包括树脂掩膜片、复合型掩膜片以及金属 掩膜片中的任一个，其中，所述树脂掩膜片在树脂膜形成有上述开口图 案，所述复合型掩膜片具有并列配置有狭缝状的多个贯通孔的金属膜与 层叠于该金属膜的一面并且在上述贯通孔内形成有至少一个上述开口 图案的树脂膜，所述金属掩膜片在金属膜形成有上述开口图案。

为了解决上述课题，本发明的触摸面板的制造方法是包括金属膜、 绝缘膜以及透明电极膜的触摸面板的制造方法，上述金属膜的图案形成 使用具有对形成于对象物面上的配线图案进行了分割的开口图案的多 个第一溅射用掩膜进行多次溅射成膜，并且合成通过上述多个第一溅射 用掩膜分别成膜的图案形成单一的配线图案，上述绝缘膜的图案形成通 过在上述绝缘膜上使用印刷用掩膜印刷光致抗蚀剂的图案，将上述光致 抗蚀剂的图案作为掩膜进行上述绝缘膜的湿式蚀刻从而图形化，上述透 明电极膜的形成通过使用具有与应形成的图案对应的开口图案的第二 溅射用掩膜对被图案化的透明电极膜进行溅射成膜。

另外，上述第一溅射用掩膜的开口图案也可以被沿配线的长度方向 分割为多个。

并且，上述第一以及第二溅射用掩膜以及印刷用掩膜也可以分别具 备具有上述开口图案的掩膜片与包围该掩膜片的周围并且供该掩膜片 张设的框体。

此外，上述掩膜片也可以包括树脂掩膜片、复合型掩膜片以及金属 掩膜片中的任一个，其中，所述树脂掩膜片在树脂膜形成有上述开口图 案，所述复合型掩膜片具有并列配置有狭缝状的多个贯通孔的金属膜与 层叠于该金属膜的一面并且在上述贯通孔内形成有至少一个上述开口 图案的树脂膜，所述金属掩膜片在金属膜形成有上述开口图案。

根据本发明的图案形成方法，通过使用具有对形成于对象物面上的 图案进行了分割的开口图案的多个溅射用掩膜进行多次溅射成膜而形 成一个合成图案，从而能够不需要曝光工序与显影工序而将制造简单 化，并且能够不需要曝光装置以及显影装置而减少设备的成本。