[发明专利]带背板的溅射靶材的翘曲矫正方法在审
申请号: | 201480049960.5 | 申请日: | 2014-09-05 |
公开(公告)号: | CN105531396A | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
发明(设计)人: | 伊藤治;长岛卓哉;青野雅广;山本孝充 | 申请(专利权)人: | 田中贵金属工业株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 高培培;车文 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 背板 溅射 矫正 方法 | ||
1.一种带背板的溅射靶材的翘曲矫正方法,减少带背板的溅射靶 材的翘曲,所述带背板的溅射靶材通过以钎料将溅射靶材和背板接合 而成,所述溅射靶材侧翘曲成凸,所述背板侧翘曲成凹,所述带背板 的溅射靶材的翘曲矫正方法的特征在于,包含:
配置工序,将所述带背板的溅射靶材以所述溅射靶材侧位于上方 的方式配置于加压装置的下侧的加压面,并且在所述带背板的溅射靶 材的所述背板侧的外缘部与所述加压装置的所述下侧的加压面之间配 置间隔件,所述加压装置以在上下方向上相对的方式配备有上侧的加 压面和所述下侧的加压面,且能够在上下方向上对配置于该下侧的加 压面之上的被加压物进行加压;和
加压工序,在所述配置工序之后,通过所述加压装置在上下方向 上对所述带背板的溅射靶材进行加压,
所述溅射靶材是金属氧化物和碳中的至少一方分散于基体金属中 而得到的复合体。
2.根据权利要求1所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫正方法,其 特征在于,
所述金属氧化物和所述碳的合计相对于所述溅射靶材整体的体积 分数为10~60vol%。
3.根据权利要求1或2所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫正方 法,其特征在于,
所述背板是无氧铜或铜合金。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫 正方法,其特征在于,
在所述加压工序中,使施加于所述带背板的溅射靶材的压力以1 个阶段上升到作为目标的压力。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫 正方法,其特征在于,
所述背板侧的翘曲量小于0.1mm。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫 正方法,其特征在于,
所述间隔件的厚度是0.05~0.5mm。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫 正方法,其特征在于,
所述钎料是铟。
8.根据权利要求1~6中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫 正方法,其特征在于,
所述钎料是Sn系合金。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫 正方法,其特征在于,
在所述配置工序中,还在所述带背板的溅射靶材的所述溅射靶材 侧的外表面与所述上侧的加压面之间配置缓冲件。
10.根据权利要求9所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫正方法, 其特征在于,
所述缓冲件是硅橡胶。
11.根据权利要求10所述的带背板的溅射靶材的翘曲矫正方法, 其特征在于,
所述硅橡胶的厚度为0.5~1.5mm。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲 矫正方法,其特征在于,
该翘曲矫正方法在常温大气中进行。
13.根据权利要求1~12中任一项所述的带背板的溅射靶材的翘曲 矫正方法,其特征在于,
不使所述溅射靶材和所述背板发生塑性变形。
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