[发明专利]用于清洁硬表面的水性制剂在审

专利信息
申请号: 201480050143.1 申请日: 2014-09-04
公开(公告)号: CN105555320A 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: M·彼得斯;J·黑德尔;K·施泰因豪尔;D·库德 申请(专利权)人: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
主分类号: A61L2/18 分类号: A61L2/18;C11D1/02;C11D1/66;C11D1/83;C11D3/20;C11D3/386;C11D3/48;C11D11/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 彭立兵;林柏楠
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 用于 清洁 表面 水性 制剂
【说明书】:

发明涉及用于清洁硬表面的水性制剂。此外,本发明涉及清洁硬表 面,特别是医疗器械的方法,其中使用该制剂。

根据现有技术,含酶制剂已知用于硬表面(例如乳品生产和乳品加工装 置和医疗器械,包括内窥镜(endoscope)的)的机械清洁。但这类制剂中的酶 必须稳定化。

DE19717329A1公开了液态稳定化酶制品及其用于清洁硬表面,特 别是乳品生产和乳品加工装置的用途。聚六亚甲基双胍、N,N-双-(3-氨基 丙基)十二烷基胺、其盐和这些胺的混合物在DE19717329A1中被描述为 酶的稳定剂。应该进一步改进根据DE19717329A1的制剂的防腐蚀性和 清洁保护。

EP1081215A1描述了具有良好储存稳定性的液态含酶清洁剂浓缩物 及其同样用于清洁乳品污染表面的用途。

此外,ChemischeFabrikDr.WeigertGmbH&Co.KG(Hamburg, FederalRepublicofGermany)的产品neodisherMediCleanforte是已知 的。

用于器械的机械清洁的含酶制剂通常配制成碱以改进其清洁力。但 是,现有技术中已知的碱性制剂对金属具有腐蚀性,即它们以不合意的方 式侵蚀铜、黄铜,特别是铝之类的材料,这在相对复杂的医疗器械的情况 下可能受损。尽管可以通过添加硅酸盐改进碱性制剂的材料耐久性,但硅 酸盐在机器中以及在要清洁的器械上造成不想要的沉积物和变色。此外, 许多具有高pH值的酶具有分解倾向,因此必须稳定化。最后,从环境角 度看,硅酸盐的添加也是不合意的。

因此,本发明的目的是提供表现出改进的清洁力的用于清洁硬表面的 制剂。此外,该制剂必须具有低腐蚀性,以使它们特别适用于清洁医疗器 械(包括内窥镜)。该制剂不必含有硅酸盐。

现在已经令人惊讶地发现,通过一种水性制剂实现这一目的,所述水 性制剂包含

a)一种或多种蛋白酶,其中组分a)的总量相对于所述制剂的重量为0.03 至1.0重量%,

b)一种或多种阴离子表面活性剂,其中组分b)的总量相对于所述制剂的 重量为0.5至15重量%,

c)一种或多种非离子表面活性剂,其中组分c)的总量相对于所述制剂的重 量为0.1至12重量%,

d)一种或多种缓蚀剂,其中组分d)的总量相对于所述制剂的重量为0.050 至1.0重量%,

e)一种或多种多价脂族醇,其中组分e)的总量相对于所述制剂的重量为 5.0至60重量%,

f)一种或多种络合剂,其中组分f)的总量相对于所述制剂的重量为0.1至 15重量%,和

g)一种或多种对羟基苯甲酸及其酯,其中组分g)的总量相对于所述制剂的 重量为0.05至3.0重量%,

其中所述制剂的pH值为9.5至12.5。

本发明的制剂的特征特别在于

-极好的酶稳定性,

-极好的清洁力(参见使用TOSI试样的体外实验),

-在机器中的极好清洁力和

-与现有技术的制剂相比极好的材料耐久性。

在这种情况下,本发明的特殊和优选的无硅酸盐制剂的材料耐久性特 别有利地根据腐蚀试验至少与现有技术的含硅酸盐的产品的材料耐久性 一样好,即本发明的制剂不必含有硅酸盐。

借助新开发的测定清洁力的方法已经表明,本发明的制剂与现有技术 相比带来显著改进。这在室温下和在常规用于清洁法的55℃的温度下都 已惊人地证实。

在一种优选制剂中,蛋白酶选自Properase、Savinase和Esperase, 在这种情况下Esperase(如Esperase8.0L)特别优选作为组分a)。

组分a)优选以相对于制剂重量0.05至0.6重量%,优选0.1至0.4重 量%,例如0.2重量%的量存在。

在一种优选制剂中,阴离子表面活性剂选自烷基硫酸盐、烷基磺酸盐、 芳基硫酸盐和芳基磺酸盐,组分b)优选是烷基硫酸盐和/或芳基磺酸盐,且 组分b)在特别优选的方式中是烷基硫酸盐与芳基磺酸盐的混合物。

组分b)优选以相对于制剂重量1.0至12重量%,优选1.5至10.0重量 %,特别是2.0至8.0重量%,例如3或例如6重量%的量存在。

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