[发明专利]含有脂肪族多环结构的自组装膜的下层膜形成用组合物

权利要求书

1.一种图案结构的形成方法，其包含下述工序：将自组装膜的下层膜形成用组合物涂布在基板上并进行烧成而形成下层膜的工序；在该下层膜上涂布自组装膜形成用组合物并进行烧成而形成自组装膜的工序，

所述自组装膜的下层膜形成用组合物包含聚合物，所述聚合物具有在主链含有脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构的单元结构，并且具有下述式(1)所示的单元结构，

式(1)中，X为单键、以源自含乙烯基化合物的乙烯基结构为聚合链的2价基团、或以源自含芳香环化合物的含芳香环结构为聚合链的2价基团，Y为以源自脂肪族多环化合物的脂肪族多环结构为聚合链的2价基团，

所述自组装膜使用包含含有有机单体(a)作为单元结构的有机聚合物链(A)、和含有与有机单体(a)不同的单体(b)作为单元结构且键合于该有机聚合物链(A)的聚合物链(B)的嵌段聚合物。

2.根据权利要求1所述的图案结构的形成方法，脂肪族多环化合物为2环至6环的二烯化合物。

3.根据权利要求1所述的图案结构的形成方法，脂肪族多环化合物为二环戊二烯或降冰片二烯。

4.根据权利要求1所述的图案结构的形成方法，含乙烯基化合物为烯烃、丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。

5.根据权利要求1所述的图案结构的形成方法，含芳香环化合物为同素环化合物或杂环化合物。

6.根据权利要求5所述的图案结构的形成方法，同素环化合物为可以被取代的苯或可以被取代的萘。

7.根据权利要求5所述的图案结构的形成方法，杂环化合物为可以被取代的咔唑或可以被取代的吩噻嗪。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的图案结构的形成方法，所述自组装膜的下层膜形成用组合物还含有交联剂。

9.根据权利要求1～7中任一项所述的图案结构的形成方法，所述自组装膜的下层膜形成用组合物还含有酸或产酸剂。

10.根据权利要求1～7中任一项所述的图案结构的形成方法，其在涂布自组装膜的下层膜形成用组合物并进行烧成而形成下层膜的工序之前，包含形成基底膜的工序。

11.根据权利要求10所述的图案结构的形成方法，基底膜为防反射膜或硬掩模。

12.一种器件，其具有通过权利要求1～11中任一项所述的图案结构的形成方法形成的图案结构。