[发明专利]超声波探头、超声波处理器具及处理系统

权利要求书

1.一种超声波探头，其中，该超声波探头包括：

探头主体，其沿着长度轴线延伸设置，并从基端方向向顶端方向传递超 声波振动；以及

处理部，其设于所述探头主体的所述顶端方向侧，并使用经由所述探头 主体传递来的超声波振动进行处理对象的处理，该处理部包括：

暴露表面，其暴露于外部；

接触部，其设于所述暴露表面，利用传递来的所述超声波振动，一 边从与所述处理对象相接触的状态向朝向所述处理对象的内部的侵入 方向侵入，一边对所述处理对象进行处理；以及

标识部，其在所述暴露表面上设置在比所述接触部靠与所述侵入方 向相反的方向侧的位置，并且成为表示所述接触部相对于所述处理对象 向所述侵入方向侵入的侵入量的标识，该标识部具有在所述侵入方向上 排列设置的多个标识面，所述标识面相对于相邻的所述标识面分别使相 对于所述侵入方向的角度不同。

2.根据权利要求1所述的超声波探头，其中，

所述标识部在所述处理部的所述暴露表面上设于朝向与所述侵入方向 垂直的方向之一的部位。

3.根据权利要求1所述的超声波探头，其中，

在将与所述长度轴线垂直的方向的一方向设为第1垂直方向、将与所述 第1垂直方向相反的方向设为第2垂直方向的情况下，所述接触部位于比所述 长度轴线靠所述第1垂直方向侧的位置，

所述接触部的所述侵入方向与所述第1垂直方向一致，

所述标识部设于比所述接触部靠所述第2垂直方向侧的位置。

4.根据权利要求3所述的超声波探头，其中，

所述处理部具有弯曲突出部，该弯曲突出部通过相对于所述长度轴线向 所述第1垂直方向弯曲而朝向所述第1垂直方向突出，

所述处理部的所述暴露表面具有第1弯曲暴露部，该第1弯曲暴露部在所 述弯曲突出部上朝向所述顶端方向，并形成所述处理部的顶端，

所述接触部位于作为所述弯曲突出部的所述第1垂直方向侧的端的突出 端，

所述标识部设于比所述突出端靠所述第2垂直方向侧的位置。

5.根据权利要求4所述的超声波探头，其中，

在将与所述长度轴线垂直、并且与所述第1垂直方向和所述第2垂直方向 垂直的两个方向设为第3垂直方向和第4垂直方向的情况下，所述处理部的所 述暴露表面包括在所述弯曲突出部中朝向所述基端方向的第2弯曲暴露部、 在所述弯曲突出部中朝向所述第3垂直方向的第3弯曲暴露部以及在所述弯 曲突出部中朝向所述第4垂直方向的第4弯曲暴露部，

所述标识部设于所述第1弯曲暴露部、所述第2弯曲暴露部、所述第3弯 曲暴露部以及所述第4弯曲暴露部中的至少一者上。

6.根据权利要求3所述的超声波探头，其中，

所述处理部沿着所述长度轴线不弯曲地延伸设置，

所述处理部的所述暴露表面包括在所述处理部的外周上朝向所述第1垂 直方向的第1外周暴露部、在所述处理部的所述外周上朝向所述第2垂直方向 的第2外周暴露部以及在所述第1外周暴露部与所述第2外周暴露部之间沿着 所述第1垂直方向和所述第2垂直方向连续地延伸设置的中继暴露部，

所述处理部具有孔限定面，该孔限定面限定在位于所述第1外周暴露部 的第1开口端开口的开口孔，并从所述第1开口端朝向所述第2垂直方向延伸 设置，

所述接触部位于所述开口孔的所述第1开口端，

所述标识部设于所述中继暴露部。

7.根据权利要求6所述的超声波探头，其中，

所述开口孔在位于所述第2外周暴露部的第2开口端开口，在所述第1开 口端与所述第2开口端之间沿着所述第1垂直方向和所述第2垂直方向贯穿所 述处理部，

所述中继暴露部包括位于所述开口孔的外部的外侧中继部和作为所述 孔限定面限定所述开口孔的内侧中继部。

8.根据权利要求6所述的超声波探头，其中，

该超声波探头还具有通路，该通路经由所述探头主体的内部沿着所述长 度轴线延伸设置，并与所述开口孔相连通。