[发明专利]用于原子力显微镜的样本支架

权利要求书

1.一种用于保持样本的样本支架，其特征在于，样本支架包括：

第一保持组件和第二保持组件(100、200)，其中保持组件(100、200)各自包括尖端(103、203)，其中，保持组件(100、200)能各自从第一位置移动到第二位置，在第一位置中，尖端(103、203)被放置为彼此相邻，在第二位置中，尖端(103、203)比在第一位置中时进一步互相间隔开一定的间隔(G)，以用于接收要保持的样本(S)的至少一部分，其中，从第一位置到第二位置的移动包括枢转运动，并且其中，

尖端(103、203)被设计为穿透样本或者挤压样本(S)，以便在样本(S)被间隙(G)接收且保持组件(100、200)从第二位置移动回第一位置时保持住样本(S)，

并且其中，样本支架包括挠性支撑件(10)，挠性支撑件(10)具有上侧部(10a)和背对所述上侧部(10a)的下侧部(10b)，其中，保持组件(100、200)各自包括第一部(101、201)以及第二部(102、202)，第一部(101、201)被连接到挠性支撑件(10)的上侧部(10a)，第二部(102、202)形成尖端(103、203)，其中各自的第一部(101、201)被粘接到挠性支撑件(10)的上侧部(10a)，和/或挠性支撑件(10)包括多孔表面(P)，多孔表面(P)具有多个孔，该多孔表面(P)在间隙(G)下面延伸。

2.根据权利要求1所述的样本支架，其特征在于，所述样本支架与原子力显微镜一同使用。

3.根据权利要求1所述的样本支架，其特征在于，从第一位置到第二位置的运动是保持组件(100、200)的枢转运动，并且基于该枢转运动，尖端(103、203)互相远离。

4.根据权利要求1所述的样本支架，其特征在于，样本支架包括基底(30)，其中挠性支撑件(10)被设计为通过它的下侧部(10b)被放置在基底(30)的上侧部(30a)上。

5.根据权利要求4所述的样本支架，其特征在于，基底(30)被设计为将磁力作用于保持组件(100、200)中的每一个上，使得基底吸引保持组件(100、200)。

6.根据权利要求1-3的任意一项所述的样本支架，其特征在于，第一保持组件和第二保持组件(100、200)在停留它们的第一位置中时相对于彼此落于一条线上。

7.根据权利要求6所述的样本支架，其特征在于，其中，第一保持组件和第二保持组件(100、200)在位于它们的第二位置中时被布置为相对于彼此呈一定角度(W)。

8.根据权利要求7所述的样本支架，其特征在于，第一保持组件和第二保持组件(100、200)在位于它们的第二位置中时被布置为相对于彼此呈钝角(W)。

9.根据权利要求7所述的样本支架，其特征在于，第一保持组件和第二保持组件(100、200)在位于它们的第二位置中时被布置为相对于彼此呈小于180°的角。

10.根据权利要求1所述的样本支架，其特征在于，保持组件(100、200)各自包括疏水表面(106、206)。

11.根据权利要求10所述的样本支架，其特征在于，疏水表面(106、206)至少被形成在每个保持组件(100、200)的背对挠性支撑件(10)的外侧部上。

12.根据权利要求11所述的样本支架，其特征在于，通过使用疏水涂层涂覆外侧部来形成疏水表面(106、206)。

13.根据权利要求12所述的样本支架，其特征在于，通过使用疏水的PAP-Pen标记笔涂覆外侧部来形成疏水表面(106、206)。