[发明专利]在表面上形成沉积的图案的方法

权利要求书

1.一种用于在基底的选定部分上形成材料的涂层的方法，所述基 底具有形成在所述基底的表面的选定部分中的多个腔室，每个腔室具 有从所述腔室底部向外延伸的外周侧壁，所述方法包括：

提供在其上具有脱模剂的结构；

使晶片的顶表面与所述脱模剂接触以使所述脱模剂的一部分转移 到所述晶片的所述顶表面，同时所述腔室的底部部分与所述脱模剂保 持隔开，以产生具有如下表面的中间结构，所述表面包括：所述脱模 剂设置在所述晶片的所述顶表面上并且所述腔室的底部部分没有脱模 剂；

使所述中间结构的所述表面暴露到所述材料，以将所述材料毯式 涂覆在设置在所述晶片的顶表面上的脱模剂和所述腔室的底部部分两 者上；

使具有已涂覆的脱模剂和所述底部部分的所述中间结构暴露到从 所述晶片的顶表面选择地去除脱模剂以及其上的涂层材料同时在所述 腔室的底部部分上留下所述涂层材料的工艺。

2.一种用于在光能透明晶片的选定部分上形成防反射涂层的方 法，所述光能透明晶片具有形成在所述晶片的表面的选定部分中的多 个腔室，每个腔室具有从所述表面(腔室底部)向外延伸的外周侧壁， 所述方法包括：

提供在其上具有脱模剂的结构；

使所述晶片的顶表面与所述脱模剂的一部分接触，以使所述脱模 剂转移到所述晶片的所述顶表面，同时所述腔室的底部部分与所述脱 模剂保持隔开，以产生具有如下表面的中间结构，所述表面包括：所 述脱模剂设置在所述晶片的顶表面上并且所述腔室的底部部分没有脱 模剂；

使所述中间结构的所述表面暴露到防反射涂层材料，以将所述防 反射涂层材料毯式涂覆在设置在所述晶片的顶表面上的脱模剂和所述 腔室的底部部分两者上；

使在所述晶片的顶表面上设置脱模剂并且所述腔室的底部部分没 有脱模剂的所述中间结构暴露到选择地去除脱模剂以及其上的所述防 反射涂层材料同时在所述腔室的底部部分上留下所述防反射涂层材料 的工艺。

3.根据权利要求2所述的方法，包括：

提供具有多个检测器阵列的第二晶片，所述阵列中的每个阵列与 所述腔室中的相应的一个腔室关联；

使所述阵列中的每个阵列与所述腔室中的所述相应的一个腔室对 齐；

使光学透明晶片粘附到所述第二晶片，所述腔室中的每个腔室在 其上具有从所述相应的阵列移位的防反射涂层，并且所述晶片的顶表 面的第二部分被粘附到所述第二晶片。