[发明专利]用于分配系统的喷嘴有效
申请号: | 201480056904.4 | 申请日: | 2014-09-16 |
公开(公告)号: | CN105636705B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 罗伯特·沃特列尔;格德·克利姆梅克;塞巴斯蒂安·罗哈齐 | 申请(专利权)人: | 泰华施公司 |
主分类号: | B05B1/30 | 分类号: | B05B1/30 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 沈同全;车文 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴嵌件 流体 壳体 第二位置 第一位置 排出 分配系统 喷嘴 出口孔 出口 连通 流体分配喷嘴 出口流体 流体源流 流体流 入口处 移动 | ||
1.一种流体分配喷嘴,包括:
壳体,所述壳体包括出口,用于将流体排出到周围环境;以及
喷嘴嵌件,所述喷嘴嵌件设置在所述壳体中并且包括入口,所述入口与流体源流体连通以接收流体流,所述喷嘴嵌件还包括第一出口孔和第二出口孔,所述第二出口孔定位在所述第一出口孔的上游,所述喷嘴嵌件能够选择性地相对于所述壳体在第一位置和第二位置之间移动,在所述第一位置中,来自所述入口的流体以第一流量通过所述出口排出,在所述第二位置中,来自所述入口的所述流体以第二流量通过所述出口排出,所述第二流量大于所述第一流量,所述喷嘴嵌件能够独立于所述入口处的流体压力在所述第一位置和所述第二位置之间移动。
2.如权利要求1所述的流体分配喷嘴,其中,所述喷嘴能够响应于引入到所述壳体中的致动流体在所述第一位置和所述第二位置之间移动。
3.如权利要求2所述的流体分配喷嘴,其中,所述壳体和所述喷嘴嵌件协作地限定间隙,并且其中,所述致动流体被引入到所述间隙中。
4.如权利要求3所述的流体分配喷嘴,其中,所述喷嘴嵌件具有邻近所述入口定位的凸缘,并且其中,所述致动流体作用在所述凸缘上以使所述喷嘴嵌件在所述第一位置和所述第二位置之间移动。
5.如权利要求2所述的流体分配喷嘴,其中,所述致动流体包括压缩空气。
6.如权利要求1所述的流体分配喷嘴,其中,所述喷嘴嵌件被朝向所述第一位置偏压。
7.如权利要求6所述的流体分配喷嘴,还包括偏压元件,所述偏压元件联接到所述喷嘴嵌件以将所述喷嘴嵌件朝向所述第一位置偏压。
8.如权利要求1所述的流体分配喷嘴,其中,所述喷嘴嵌件具有中心孔,所述中心孔从所述入口延伸到所述第一出口孔以限定穿过所述喷嘴嵌件的第一流动路径,并且
所述第二出口孔限定与所述第一流动路径不同的第二流动路径。
9.如权利要求8所述的流体分配喷嘴,其中,所述第二出口孔由多个开口限定。
10.如权利要求8所述的流体分配喷嘴,其中,所述壳体限定邻近所述出口的出口室,其中,在所述第一位置中,流体被沿着所述第一流动路径导引通过所述出口,并且其中,在所述第二位置中,流体被沿着所述第一流动路径和所述第二流动路径导引通过所述出口。
11.如权利要求10所述的流体分配喷嘴,其中,在所述第一位置中,所述喷嘴嵌件的邻近所述第一出口孔设置的端部被定位成接触所述壳体的内壁以阻止流体流沿着所述第二流动路径到达所述出口。
12.如权利要求11所述的流体分配喷嘴,其中,当所述喷嘴嵌件处于所述第二位置时,所述喷嘴嵌件的所述端部与所述内壁间隔开以允许流体流沿着所述第二流动路径到达所述出口。
13.如权利要求1所述的流体分配喷嘴,其中,所述第一流量在3升/分钟和15升/分钟之间,并且所述第二流量在50升/分钟和200升/分钟之间。
14.一种流体分配喷嘴,包括:
壳体,所述壳体限定出口;以及
喷嘴嵌件,所述喷嘴嵌件设置在所述壳体中并且能够选择性地相对于所述壳体在第一位置和第二位置之间移动,所述喷嘴嵌件包括
入口,所述入口定位成接收来自流体源的流体流,
第一出口孔,所述第一出口孔与所述入口流体连通以将流体从所述喷嘴嵌件排出,以及
第二出口孔,所述第二出口孔与所述第一出口孔间隔开并且与所述入口流体连通以将流体从所述喷嘴嵌件排出,
其中,当所述喷嘴嵌件处于所述第一位置时,流体从所述喷嘴嵌件仅仅通过所述第一出口孔排出,并且
其中,当所述喷嘴嵌件处于所述第二位置时,流体从所述喷嘴嵌件通过所述第一出口孔和所述第二出口孔排出。
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