[发明专利]用于分配系统的喷嘴有效
申请号: | 201480056904.4 | 申请日: | 2014-09-16 |
公开(公告)号: | CN105636705B | 公开(公告)日: | 2018-06-19 |
发明(设计)人: | 罗伯特·沃特列尔;格德·克利姆梅克;塞巴斯蒂安·罗哈齐 | 申请(专利权)人: | 泰华施公司 |
主分类号: | B05B1/30 | 分类号: | B05B1/30 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 沈同全;车文 |
地址: | 美国威*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴嵌件 流体 壳体 第二位置 第一位置 排出 分配系统 喷嘴 出口孔 出口 连通 流体分配喷嘴 出口流体 流体源流 流体流 入口处 移动 | ||
本发明涉及一种用于分配系统的喷嘴,包括壳体,壳体包括将流体排出到周围环境的出口。流体分配喷嘴还包括喷嘴嵌件,喷嘴嵌件设置在壳体中并包括与流体源流体连通以接收流体流的入口。喷嘴嵌件包括出口孔,出口孔与出口流体连通以将流体从入口引向出口。喷嘴嵌件呢刚刚选择性地相对于壳体在第一位置和第二位置之间移动,在第一位置中,流体以第一流量通过出口排出,在第二位置中,流体以大于第一流量的第二流量通过出口排出。喷嘴嵌件能够独立于在入口处的流体的压力在第一位置和第二位置之间移动。
技术领域
本发明涉及一种流体分配喷嘴、一种流体分配系统以及一种改变流体通过分配喷嘴的流量的方法。
背景技术
现有喷嘴被用于选择性地控制诸如水、化学制品、饮料等等的流体的流动以按期望流量分配流体。这些喷嘴中的很多喷嘴具有喷嘴嵌件,喷嘴嵌件可以调节作为进入喷嘴的流体的压力的函数的通过喷嘴的流量。例如,某些喷嘴具有进入流体以第一压力或速度供应时的低流量运行模式以及进入流体以第二较高压力或速度供应时的高流量运行模式。在这些喷嘴中,较高流量仅能够通过增加进入喷嘴的流体的流体压力或速度来实现。
发明内容
本发明涉及一种流体分配喷嘴,该流体分配喷嘴独立于进入喷嘴的流体的压力控制通过喷嘴的流体流。
在一方面,本发明提供一种流体分配喷嘴,其包括壳体,该壳体包括将流体排出到周围环境的出口。流体分配喷嘴还包括喷嘴嵌件,该喷嘴嵌件设置在所述壳体中并包括与流体源流体连通以接收流体流的入口。喷嘴嵌件包括与出口流体连通以将流体从入口引向出口的出口孔。喷嘴嵌件能够选择性地相对于壳体在第一位置和第二位置之间移动,在第一位置中,流体以第一流量通过出口排出,在第二位置中,流体以大于第一流量的第二流量通过出口排出。喷嘴嵌件能够独立于在入口处的流体压力在第一位置和第二位置之间移动。
在另一方面,本发明提供了一种流体分配喷嘴,该流体分配喷嘴包括限定出口的壳体和设置在壳体中的喷嘴嵌件。喷嘴嵌件能够选择性地相对于壳体在第一位置和第二位置之间移动。喷嘴嵌件包括:定位成从流体源接收流体流的入口;将流体从喷嘴嵌件排出的第一出口孔;以及与第一出口孔隔开的将流体从喷嘴嵌件排出的第二出口孔。当喷嘴嵌件处于第一位置时,流体通过第一出口孔排出,并且当喷嘴嵌件处于第二位置时,流体通过第一出口孔和第二出口孔排出。
在另一方面,本发明提供了一种流体分配系统,该流体分配系统包括:流体源;联接到流体源并从流体源延伸以输送来自流体源的流体的管道;以及联接到管道的喷嘴。喷嘴包括壳体和喷嘴嵌件,壳体联接到管道并包括将来自管道的流体排出到周围环境的出口,喷嘴嵌件设置在壳体中并限定出口孔。喷嘴嵌件能够选择性地相对于壳体在第一位置和第二位置之间移动,在第一位置中,流体以第一流量通过喷嘴嵌件和出口排出,在第二位置中,流体以大于第一流量的第二流量通过喷嘴嵌件和出口排出。壳体和喷嘴嵌件协作限定间隙,并且壳体包括端口,该端口与所述间隙连通且进一步适于与致动流体源连通以选择性地改变喷嘴嵌件在壳体内的位置,从而调节从出口排出的流体流量。
在另一方面,本发明提供了一种改变流体通过分配喷嘴的流量的方法。该方法包括:将流体导引到由壳体支撑的喷嘴嵌件的入口中;使流体沿着第一流动路径通过喷嘴嵌件排出;以及以第一流量从喷嘴分配流体。该方法还包括:选择性地相对于壳体调节喷嘴嵌件;响应于喷嘴嵌件相对于壳体的运动使流体沿着第一流动路径和第二流动路径通过喷嘴嵌件排出;以及独立于进入喷嘴的流体的压力以不同于第一流量的第二流量从喷嘴分配流体。
本发明的其它特征和方面通过考虑下列详细描述和附图将会变得显而易见。
附图说明
图1是包括体现本发明的多个喷嘴的流体分配系统的透视图。
图2是图1的流体分配系统的一部分和喷嘴中的一个的透视图。
图3是包括壳体和喷嘴嵌件的图2的流体分配喷嘴的分解图。
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