[发明专利]包含烯丙基二硫化物的加成‑断裂低聚物

权利要求书

1.一种由下式表示的加成-断裂低聚物：

其中

R^A为烃基基团或杂烃基基团；

R^B各自独立地为烃基基团或杂烃基基团；

R^C各自独立地为烃基基团或杂烃基基团；

下标a大于1；

FG¹和FG²各自独立地为连接所示的R^A、R^B和R^C基团的官能团；其中FG¹和FG²选自酯、酰胺、脲、氨基甲酸酯、醚、胺、酸酐、硫酯、硫醚官能团，并且

Z包含烯键式不饱和的可聚合基团。

2.根据权利要求1所述的加成-断裂剂，其中下标a为2至20。

3.根据权利要求1所述的加成-断裂剂，其中下标a为2至10。

4.根据权利要求1所述的加成-断裂剂，其中R^A、R^B和R^C各自独立地为具有2至10个碳原子的亚烷基。

5.根据权利要求1所述的加成-断裂剂，其中Z-R^C-选自H₂C＝CH-CH₂-O-C₃H₆-、H₂C＝CH-CH₂-C₆H₁₂-、H₂C＝CH-环基-C₆H₁₀-、H₂C＝CH-苯基-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(O-(O)C(CH₃)＝CH₂)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH(CH₂OPh)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂CH₂-N(H)-C(O)-O-CH(CH₂OPh)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-、H₂C＝C(H)C(O)-O-(CH₂)₄-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、H₂C＝C(CH₃)C(O)-O-CH₂-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-、CH₃-(CH₂)₇-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-、H₂C＝C(H)C(O)-O-(CH₂)₄-O-CH₂-CH(-O-(O)C(H)＝CH₂)-CH₂-和H₂C＝C(H)C(O)-O-CH₂-CH(OH)-CH₂-、H₂C＝C(H)C(O)-O-(CH₂)₄-O-CH₂-CH(-O-(O)C(H)＝CH₂)-CH₂-和CH₃-(CH₂)₇-CH(O-(O)C-N(H)-CH₂CH₂-O-(O)C(CH₃)C＝CH₂)-CH₂-。