[发明专利]处理器具及处理系统

权利要求书

1.一种处理器具，其能够使用能量对生物体组织进行处理，其中，该处理器具包括：

处理部，其具有抵接于所述生物体组织的抵接面以及所述抵接面的背面，能够经由所述抵接面对所述生物体组织施加能量并且伴随着所述能量的施加朝向所述背面传递热量；

罩，其覆盖所述处理部的所述背面；以及

调整部，其配置在所述处理部与所述罩之间，以如下方式进行调整：与所述处理部的所述背面的伴随着所述能量的施加而导致的温度的上升相应地使所述处理部与所述罩之间的距离增大而扩大所述处理部与所述罩之间的空气层区域，与所述背面的温度降低的情况相应地使所述处理部与所述罩之间的距离减小而缩小空气层区域。

2.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

所述调整部进行热变形以与所述处理部的所述背面的伴随着所述能量的施加而导致的温度的上升相应地使所述处理部与所述罩之间的距离增大而扩大所述处理部与所述罩之间的空气层区域，与所述背面的温度降低的情况相应地使所述处理部与所述罩之间的距离减小而缩小所述空气层区域。

3.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

该处理器具还具有温度测量部，该温度测量部设于所述处理部，用于测量所述背面的温度，

所述调整部根据利用所述温度测量部测量到的温度结果调整所述处理部与所述罩之间的距离。

4.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

该处理器具还具有距离传感器，该距离传感器能够测量所述处理部的所述背面与所述罩之间的距离，

该处理器具能够根据利用所述距离传感器测量到的距离推断所述处理部的所述背面的温度。

5.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

所述罩与所述处理部的所述背面的温度的降低相应地抵接于所述处理部的所述背面。

6.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

所述处理部具有所述抵接面与所述背面之间的侧面，

所述罩具有边缘部，该边缘部覆盖所述处理部的所述侧面的至少一部分且能够相对于所述抵接面接近及远离，

所述处理部的所述侧面具有显示体，该显示体根据所述处理部的所述抵接面与所述罩的所述边缘部之间的位置关系显示所述处理部的所述背面的温度状态。

7.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

所述罩具有耐热性，并且具有防止热量对所述生物体组织的周围的生物体组织的影响的隔热性。

8.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

该处理器具还具有操作部，该操作部使所述处理部动作，

所述处理部具有利用所述操作部操作的、能够相对于彼此开闭的一对钳构件。

9.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

所述调整部连结着所述处理部与所述罩。

10.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

所述罩具有与所述处理部的所述背面相对的内表面，

所述处理部的所述背面具有相对于所述背面形成为凹状的凹部，

所述罩的内表面具有能够插拔于所述凹部的凸部。

11.根据权利要求1所述的处理器具，其中，

该处理器具还具有连结部，该连结部连结所述处理部与所述罩。

12.根据权利要求11所述的处理器具，其中，

所述连结部配置于所述罩的边缘部或其附近。