[发明专利]镀银材料及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201480061115.X 申请日: 2014-10-31
公开(公告)号: CN105705680A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 贞森俊希;宫泽宽;尾形雅史;篠原圭介 申请(专利权)人: 同和金属技术有限公司
主分类号: C25D7/00 分类号: C25D7/00;C25D3/46;H01B1/02;H01B5/02;H01R13/03
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 刘多益;董庆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 镀银 材料 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种镀银材料,在原材料上形成有由银构成的表层的镀银材料中,表 层的优先取向面为{111}面,且在50℃下加热168小时后的{111}面的X射线 衍射峰的半值宽度对加热前的{111}面的X射线衍射峰的半值宽度的比值在 0.5以上。

2.如权利要求1所述的镀银材料,其特征在于,反射密度在1.0以上。

3.如权利要求1所述的镀银材料,其特征在于,维氏硬度Hv在100以上。

4.如权利要求1所述的镀银材料,其特征在于,在50℃下加热168小时 后的维氏硬度Hv在100以上。

5.如权利要求1所述的镀银材料,其特征在于,所述原材料由铜或铜合 金构成。

6.如权利要求1所述的镀银材料,其特征在于,在所述原材料与所述表 层之间形成有由镍构成的基底层。

7.一种接触点或端子部件,其特征在于,将权利要求1~6中任一项所述 的镀银材料作为材料使用。

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