[发明专利]具有衬底支撑表面上的拱形凹槽的衬托器

权利要求书

1.一种用于外延生长反应器的衬托器，其由主体(601)组成，所述主体具有面(602)，所述面包括适用于接纳待经受外延生长的衬底的至少一个区域(603)；其中，所述区域(603)具有用于搁置所述衬底的搁置表面(604)或与用于搁置所述衬底的搁置表面(604)相关联，并且其中所述搁置表面(604)设置有图案，

其特征在于，所述图案包括拱形凹槽(606)的至少三个复数体(605A、605B、605C)，所述至少三个复数体中的每个复数体中的凹槽中的每一个凹槽的凹面面向所述搁置表面的边缘。

2.根据权利要求1所述的衬托器，其中，凹槽(606)的每个复数体(605A、605B、605C)在所述搁置表面(604)的不同的独立扇区(607A、607B、607C)中延伸。

3.根据权利要求2所述的衬托器，其中，所述搁置表面(604)的所述扇区(607A、607B、607C)是互相相等的。

4.根据权利要求2所述的衬托器，其中，在每个复数体(605A、605B、605C)中，所述凹槽(606)彼此分开。

5.根据权利要求3所述的衬托器，其中，在每个复数体(605A、605B、605C)中，所述凹槽(606)彼此分开。

6.根据权利要求4所述的衬托器，其中，每个复数体(605A、605B、605C)的所述凹槽(606)彼此平行。

7.根据权利要求5所述的衬托器，其中，每个复数体(605A、605B、605C)的所述凹槽(606)彼此平行。

8.根据权利要求1所述的衬托器，其中，所述至少三个复数体中的每个复数体中的凹槽中的每一个凹槽的凹面在不同的方向定向。

9.根据权利要求1所述的衬托器，其中，所述至少三个复数体中的每个复数体中的凹槽中的每一个凹槽的凹面在其整个纵向延伸上是恒定的。

10.根据权利要求1-9中任一项所述的衬托器，其中，所述复数体(605A、605B、605C)的每个凹槽(606)开始于所述搁置表面(604)的边缘上的第一点(608)中且结束于所述搁置表面(604)的边缘上的第二点(609)中，所述第一点(608)和所述第二点(609)彼此远离。

11.根据权利要求1-9中任一项所述的衬托器，其中，所述搁置表面(604)由环形凹槽(610)包围。

12.根据权利要求10所述的衬托器，其中，所述搁置表面(604)由环形凹槽(610)包围。

13.根据权利要求1-9和12中任一项所述的衬托器，其中，所述复数体(605A、605B、605C)的每个凹槽(606)包括彼此相等并且相互倾斜的第一直线端部伸展部和第二直线端部伸展部，以及连接所述第一直线端部伸展部和所述第二直线端部伸展部的第三中部圆形伸展部。

14.根据权利要求10所述的衬托器，其中，所述复数体(605A、605B、605C)的每个凹槽(606)包括彼此相等并且相互倾斜的第一直线端部伸展部和第二直线端部伸展部，以及连接所述第一直线端部伸展部和所述第二直线端部伸展部的第三中部圆形伸展部。

15.根据权利要求11所述的衬托器，其中，所述复数体(605A、605B、605C)的每个凹槽(606)包括彼此相等并且相互倾斜的第一直线端部伸展部和第二直线端部伸展部，以及连接所述第一直线端部伸展部和所述第二直线端部伸展部的第三中部圆形伸展部。