[发明专利]具有隔层的有机x射线检测器

说明书

公开了一种有机x射线检测器和制作有机x射线检测器的方法。x射线检测器包括设置在基底上的TFT阵列、设置在TFT阵列上的有机光电二极管层、设置在光电二极管层上的隔层，以及设置在隔层上的闪烁体层，使得隔层包括至少一种无机材料。

背景技术

制造成具有连续光电二极管的数字x射线检测器具有低成本数字射线照相和坚固、轻量和便携式检测器中的潜在应用。具有连续光电二极管的数字x射线检测器具有增大的填充系数和可能的较高量子效率。连续的光电二极管大体上包括有机光电二极管(OPD)。将x射线转换成可见光的闪烁体大体上设置在OPD的顶部上。

在诸如设置闪烁体、封装、激光修复过程或操作的后OPD过程期间，OPD具有高机会暴露于空气。大多数基于有机的光电二极管对氧和水分敏感，且因此需要免受含水分的空气。因此，所需的是一种用于OPD的隔层，其将保护OPD在沉积过程和操作期间免受来自闪烁体的氧和水分含量。

发明内容

本发明通过在OPD层与来自闪烁体的水分和氧之间提供隔层来满足这些和其它需要。有机x射线检测器包括基底、薄膜晶体管(TFT)层、隔层和OPD。

因此，在一方面，本发明涉及有机x射线检测器。x射线检测器包括设置在基底上的TFT阵列、设置在TFT阵列上的有机光电二极管层、设置在光电二极管层上的隔层，以及设置在隔层上的闪烁体层，使得隔层包括至少一种无机材料。

在另一方面，本发明涉及一种有机x射线检测器，其包括TFT阵列、有机光电二极管层、电极、平面化层、隔层、粘合层、闪烁体层和附加的隔层。TFT阵列设置在基底上，且有机光电二极管层设置在TFT阵列上。第一电极设置在TFT阵列与光电二极管层之间，且第二电极设置在光电二极管层上。平面化层设置在第二电极上，且隔层设置在平面化层上。粘合层设置在隔层与闪烁体层之间，且附加的隔层设置在闪烁体上。隔层和附加的隔层两者包括至少一种无机材料。

在又一方面，本发明涉及一种制作有机x射线检测器的方法。制作有机x射线检测器的步骤包括将TFT阵列设置在基底上、将有机光电二极管层设置在TFT阵列上、将平面化层设置在光电二极管层上、将包括至少一种无机材料的隔层设置在平面化层上，以及将闪烁体层设置在隔层上。

附图说明

图1为根据本发明的一个实施例的有机x射线检测器的简图；

图2为根据本发明的一个实施例的平面化层和隔层的简图；

图3为根据本发明的一个实施例的平面化层和隔层的简图；

图4为根据本发明的一个实施例的平面化层和隔层的简图；

图5为根据本发明的一个实施例的平面化层和隔层的简图；

图6为根据本发明的一个实施例的阴极层和隔层的简图；

图7为根据本发明的一个实施例的阴极层和隔层的简图；

图8为根据本发明的一个实施例的阴极层和隔层的简图；

图9为根据本发明的一个实施例的阴极层和隔层的简图；以及

图10为根据本发明的一个实施例的阴极层和隔层的简图。

具体实施方式

在以下描述中，相似的参考标号表示附图中所示的若干视图各处的相似或对应的部分。还将理解的是，诸如顶部、上方、上面、上等用语是方便的词语，且不看作是限制性用语。

诸如但不限于有机x射线检测器的光电装置包括电子或光学活性的部分，例如，常常设置在基底上的闪烁体和光电二极管。为了保护活性部分和基底免于暴露于水分、氧或腐蚀性化学侵蚀引起的退化，光电装置一般包装在密封件中。