[发明专利]多层体及其生产方法

权利要求书

1.用于生产多层体(10)的方法，所述方法包括如下步骤：

a)在基材上生产部分化第一层(11)或者部分化第一层系统，其中，所述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域(111)中而不存在于第二部分化区域(112)中；

b)生产部分化第二层(12)或部分化第二层系统，其中，所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统存在于第三部分化区域(121)中而不存在于第四部分化区域(122)中，以及其中，所述第三部分化区域(121)与所述第一部分化区域(111)和第二部分化区域(112)交叠；

c)采用所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统作为掩蔽，构建所述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统。

2.如权利要求1所述的方法，

其特征在于：

步骤c)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建通过蚀刻进行。

3.如权利要求2所述的方法，

其特征在于：

所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统是抗蚀刻物质，或者至少包含抗蚀刻物质。

4.如权利要求3所述的方法，

其特征在于：

所述抗蚀刻物质是漆。

5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，

其特征在于：

步骤c)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建通过剥离进行。

6.如权利要求5所述的方法，

其特征在于：

所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统是修补基面涂层，其可溶于溶剂中，或者所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统至少包含此类修补基面涂料。

7.如权利要求6所述的方法，

其特征在于：

所述修补基面涂料是包含粘合剂和填料的漆。

8.如权利要求1所述的方法，

其特征在于：

步骤c)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建通过掩蔽曝光进行。

9.如权利要求8所述的方法，

其特征在于：

所述部分化第二层(12)或者部分化第二层系统是保护漆，或者至少包含保护漆。

10.如权利要求9所述的方法,

其特征在于：

所述部分化第一层(11)或者部分化第一层系统是光刻胶或者至少包含光刻胶，其中，所述保护漆可溶于溶剂的修补基面涂层。

11.如权利要求9或10所述的方法，

其特征在于：

所述保护漆和/或光刻胶是这样的漆，其包含粘结剂、颜料、薄膜体系、胆甾醇型液晶、染料和/或金属或非金属纳米颗粒。

12.如权利要求1所述的方法，

其特征在于：

在步骤a)和/或b)中，所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统首先在整个表面上产生或者至少在大面积的表面上产生，以及然后进行构建。

13.如权利要求12所述的方法，

其特征在于：

通过蚀刻、剥离或掩蔽曝光，来进行步骤a)或b)中的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统的生产。

14.如权利要求13所述的方法，

其特征在于：

在步骤b)的所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统的生产期间，根据步骤c)的所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统的构建同时进行。

15.如权利要求1所述的方法，

其特征在于：

在步骤a)和/或步骤b)中，所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统是以结构化形式产生的。

16.如权利要求15所述的方法，

其特征在于：

通过印刷方法来产生所述部分化第一层(11)或部分化第一层系统和/或所述部分化第二层(12)或部分化第二层系统。