[发明专利]多层体及其生产方法有效

专利信息
申请号: 201480065028.1 申请日: 2014-11-28
公开(公告)号: CN105793060B 公开(公告)日: 2017-10-24
发明(设计)人: R·斯托布;L·布雷姆;P·克拉莫;R·施皮斯;K·福斯特 申请(专利权)人: 雷恩哈德库兹基金两合公司;OVD基尼格拉姆股份公司
主分类号: B42D25/405 分类号: B42D25/405;B42D25/415;B42D25/43;B42D25/40;B42D25/445;B42D25/45;B42D25/29;B42D25/355
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 徐鑫
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 多层 及其 生产 方法
【说明书】:

发明涉及具有两层或层系统的多层体,及其生产方法。

多层体作为防伪元件是本领域已知的,并且被广泛地用于保护钞票、证券和身份证件免受伪造或者用于产品鉴定。它们是基于数层功能层的组合,例如,其可以包括光学可变元素(OVD=光学可变装置)、衍射元素、部分金属化层或印刷特征。

已知通过如下方式来生产此类多层体:依次施加单独层,装配所需的层序列。为了获得特定防伪能力的多层体,希望将单层的特征进行无缝相互混合。换言之,层应该尽可能精确地相互配准排列。但是,当多层体是依次装配的情况下,无法总是实现该情形,因为用于生产各单层的方法在层相对位置方面存在容差。作为结果,无法可靠地实现特征之间所需的无缝过渡,这对于防伪保护和此类多层体的光学外观具有负面影响。

配准或配准精确地指的是叠加层的相互精确位置排列,维持所需的位置容差。

因此,本发明的目的是提供生产多层体的方法,其使得可以生产具有改善的防伪安全的多层体。本发明的另一个目的是提供具体的防伪多层体。

通过具有权利要求1的特征的方法以及通过具有权利要求26的特征的多层体,实现该目的。

用于生产多层体,具体地,用于生产防伪元件,的此类方法包括如下步骤:

a)在基材上生产部分化第一层或者部分化第一层系统,其中,所述部分化第一层或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域中而不存在于第二部分化区域中;

b)生产部分化第二层或部分化第二层系统,其中,所述部分化第二层或部分化第二层系统存在于第三部分化区域中而不存在于第四部分化区域中,以及其中,所述第三部分化区域与所述第一和第二部分化区域交叠;

c)采用所述部分化第二层或部分化第二层系统作为掩蔽,构建所述部分化第一层或者部分化第一层系统。

以这种方法,获得了多层体,具体地,防伪元件,其包括:基材,部分化第一层或者部分化第一层系统以及部分化第二层或者部分化第二层系统,其中,采用所述部分化第二层或者部分化第二层系统作为掩蔽,将所述部分化第一层或者部分化第一层系统精确地构建成与所述部分化第二层或者部分化第二层系统配准,以及其中,所述部分化第一层或者部分化第一层系统存在于第一部分化区域中而不存在于第二部分化区域中,以及其中,所述部分化第二层或部分化第二层系统存在于第三部分化区域中而不存在于第四部分化区域中,以及其中,所述第三部分化区域与所述第一和第二部分化区域交叠。

通过使用所述部分化第二层或部分化第二层系统作为掩蔽来构建所述部分化第一层或者部分化第一层系统,可以将这两层或层系统准确地相互配准排列。特别重要的是,所述第二部分化层或第二部分化层系统不仅延伸进入被所述第一部分化层或第一部分化层系统覆盖的那些区域,即所述第一部分化区域,还延伸进入未被所述第一部分化层或第一部分化层系统覆盖的区域,即所述第二部分化区域。通过使用所述第二部分化层或第二部分化层系统作为掩蔽在这里指的是,在构建所述第一部分化层或第一部分化层系统期间,后者选择性保留在所述第二部分化层或第二部分化层系统覆盖的那些区域中或者从所述第二部分化层或第二部分化层系统覆盖的那些区域中选择性去除。因此,在构建期间,获得了这两层或层系统之间的限定位置关系,从而使得它们相互精确地配准排列,例如相互无缝地毗邻。

层系统在这里指的是数层的任意排列。层可以是以层系统的表面法线的方向一个在另一个顶部排列,或者也是在平面中彼此相邻。层以这种方式水平和垂直地排列的组合也是可能的。

交叠指的是各个部分化区域以跨越第一或第二层的平面的表面法线的方向至少部分地是一个位于另一个顶部,即以多层体的堆叠方向观察。

两层或两层系统的生产不需要是以特定顺序进行,即,也可以是在所述第一部分化层或第一部分化层系统之前生产所述第二部分化层或者第二部分化层系统。可以直接在基材上生产层或层系统,直接一个在另一个的顶上生产层系统,或者可以生产任意中间层。

步骤c)中的所述部分化第一层或部分化第一层系统的构建优选通过蚀刻进行。如果所述部分化第二层或者部分化第二层系统是抗蚀刻物质或者包含抗蚀刻物质的话,则是有利的。

抗蚀刻物质指的是这样的物质,其对于蚀刻剂具有抗性并且在抗蚀刻物质覆盖保护对于蚀刻剂敏感的物质的地方,能够保护该物质免受蚀刻剂的侵袭。

在该实施方式中,因此,在生产了两层或两层系统之后,向得到的层堆叠施加蚀刻剂,该蚀刻剂去除了未被所述第二部分化层或者第二部分化层系统覆盖的地方的所述第一部分化层或第一部分化层系统。

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