[发明专利]电子注入器和自由电子激光器有效
申请号: | 201480066424.6 | 申请日: | 2014-11-27 |
公开(公告)号: | CN105794055B | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | A·A·尼基佩洛夫;V·Y·巴宁;P·W·H·德加格;G·C·德维雷斯;O·W·V·弗雷杰恩斯;L·A·G·格里敏克;A·卡特勒尼克;J·A·G·阿克曼斯;E·R·洛普斯特拉;W·J·恩格伦;P·R·巴特莱杰;T·J·科南;W·P·E·M·奥普特鲁特 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01S3/09 | 分类号: | H01S3/09;H05H7/06 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 注入 自由电子 激光器 | ||
1.一种电子注入器,包括:
支撑结构,被布置为支撑光阴极;
束传递系统,被布置为将来自辐射源的辐射束引导到所述光阴极的区域上,从而使得所述光阴极发射电子束;
调整机构,可操作为改变由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域;以及
控向单元,可操作为向所述电子束施加力,以改变所述电子束的轨迹,使得电子变得与所述电子注入器的轴线大致一致。
2.根据权利要求1所述的电子注入器,其中所述控向单元包括一个或多个电磁体。
3.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述控向单元处于所述电子注入器的电子助力器的下游。
4.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域与所述电子注入器的所述轴线分离。
5.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述束传递系统被配置为使得所述辐射束在入射在所述光阴极上时不垂直于所述光阴极。
6.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述调整机构包括所述束传递系统中的辐射束调整单元,所述辐射束调整单元可操作为改变所述辐射束的一个或多个特性。
7.根据权利要求6所述的电子注入器,其中所述辐射束调整单元可操作为改变所述辐射束的传播方向。
8.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述束传递系统包括反射镜,所述反射镜被布置为将所述辐射束反射到所述光阴极的区域上,并且其中所述调整机构包括可操作为改变所述反射镜的位置和/或取向的致动器。
9.根据权利要求6所述的电子注入器,其中所述调整机构可操作为控制由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域的形状。
10.根据权利要求9所述的电子注入器,其中所述调整机构可操作为控制由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域的形状,使得从所述照射区域发射的所述电子束在所述控向单元向所述电子束施加力之后呈现一个或多个所期望的特性。
11.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述调整机构包括可操作为改变所述光阴极的位置和/或取向的致动器。
12.根据权利要求11所述的电子注入器,其中所述致动器可操作为旋转所述光阴极。
13.根据权利要求1或2所述的电子注入器,还包括控制器,其中所述控制器可操作为控制所述调整机构,以便控制由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域的改变。
14.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述控向单元可操作为响应于由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域而调整施加于所述电子束的所述力。
15.根据权利要求14所述的电子注入器,还包括控制器,其中所述控制器可操作为控制所述调整机构,以便控制由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域的改变,并且其中所述控制器响应于由所述辐射束照射的所述光阴极的所述区域的改变而控制施加于所述电子束的所述力的所述调整。
16.根据权利要求1或2所述的电子注入器,还包括可操作为测量所述电子束的一个或多个特性的电子束测量装置。
17.根据权利要求16所述的电子注入器,其中所述控向单元可操作为响应于所述电子束的一个或多个特性的测量而调整施加于所述电子束的所述力。
18.根据权利要求1或2所述的电子注入器,其中所述辐射源为激光器,并且所述辐射束为激光束。
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