[发明专利]用于检查基板的设备、用于检查基板的方法、大面积基板检查设备及其操作方法

权利要求书

1.一种用于检查用于显示器制造的大面积基板的设备，所述设备包括：

真空腔室；

基板支撑件，布置在所述真空腔室中，其中所述基板支撑件被配置成用于支撑用于显示器制造的所述大面积基板；以及

第一成像带电粒子束显微镜，被配置成用于产生用于检查由所述基板支撑件支撑的基板的带电粒子束，其中所述第一成像带电粒子束显微镜包括：

物镜的减速场透镜部件。

2.如权利要求1所述的设备，进一步包括：

真空产生装置和减震器，所述真空产生装置尤其是真空泵，所述减震器提供在所述真空产生装置和所述真空腔室之间的连接部处或所述连接部中。

3.如前述权利要求的任一项所述的设备，进一步包括一或更多的强化条，所述强化条布置在所述真空腔室处或所述真空腔室中，其中所述强化条适用于结构性地强化所述真空腔室以减少震动。

4.如前述权利要求的任一项所述的设备，进一步包括：

一或更多的气动元件，其中所述真空腔室被安装在所述一或更多的气动元件上。

5.如前述权利要求的任一项所述的设备，进一步包括：

隔音屏障，适用于屏蔽所述真空腔室以免受声音震动的影响。

6.如前述权利要求的任一项所述的设备，进一步包括：

震动传感器，尤其是干涉仪，其中所述震动传感器适用于测量影响所述第一成像带电粒子束显微镜和所述基板支撑件之间的相对位置的震动。

7.如前述权利要求的任一项所述的设备，其中所述真空腔室由选自由下列项组成的组的至少一种材料制成或具有所述材料的强化结构：碳钢和矿物铸件。

8.如前述权利要求的任一项所述的设备，其中所述基板支撑件提供基板接收区，所述基板接收区沿着第一方向具有第一接收区尺寸，所述设备进一步包括：

第二成像带电粒子束显微镜，沿着所述第一方向与所述第一第二成像带电粒子束显微镜具有一距离，所述距离为所述第一接收区尺寸的30％到70％，或所述距离为30cm或更长。

9.一种用于检查基板的设备，所述基板尤其是用于显示器制造的大面积基板，所述设备包括：

真空腔室；

基板支撑件，布置在所述真空腔室中，其中所述基板支撑件提供基板接收区，所述基板接收区具有沿着第一方向的第一接收区尺寸；以及

第一成像带电粒子束显微镜和第二成像带电粒子束显微镜，所述第一成像带电粒子束显微镜和所述第二成像带电粒子束显微镜沿着所述第一方向具有一距离，所述距离为所述第一接收区尺寸的30％到70％。

10.如权利要求8或9所述的设备，其中所述真空腔室具有沿着所述第一方向的第一内部尺寸，所述第一内部尺寸为沿着所述第一方向的所述第一接收区尺寸的150％到180％。

11.如权利要求8至10中任一项所述的设备，其中所述第二成像带电粒子束显微镜与所述第一成像带电粒子束显微镜沿着所述第一方向相距至少30cm的距离。

12.如权利要求9至11中任一项所述的设备，进一步包括：

x射线探测器，被配置成用以分析从所述大面积基板发射的x射线。

13.一种用于检查用于显示器制造的大面积基板的方法，所述方法包括：

提供所述大面积基板于真空腔室中；以及

使用第一成像带电粒子束显微镜产生第一带电粒子束，其中所述第一带电粒子束以2keV或更低的着陆能量冲击在所述基板上。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述第一带电粒子束于第一射束位置冲击在所述基板上，所述方法进一步包括：

使用第二成像带电粒子束显微镜产生第二带电粒子束，其中所述第二带电粒子束以2keV或更低的着陆能量于第二射束位置冲击在所述基板上，

其中所述第一射束位置与所述第二射束位置沿着第一方向相距一射束距离，所述射束距离至少是30cm。

15.如权利要求13至14中任一项所述的方法，其中沿着所述第一方向的第一基板位置在所述第一射束位置成像，沿着所述第一方向的第二基板位置在所述第二射束位置成像，且其中所述第一基板位置和所述第二基板位置之间沿着所述第一方向的距离为沿着所述第一方向的基板宽度的40％或更多。