[发明专利]压印装置、压印方法以及物品的制造方法有效
申请号: | 201510003778.2 | 申请日: | 2015-01-05 |
公开(公告)号: | CN104765248B | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 岩井俊树;筱田健一郎 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F9/00 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压印 装置 方法 以及 物品 制造 | ||
1.一种压印装置,其使用模具进行在基板上的压印材料上形成图案的压印处理,所述压印装置包括:
模具台,其被构造为保持所述模具并且能够移动;
基板台,其包括基准标记,并且被构造为保持所述基板并且能够移动;
检测光学系统,其被构造为检测所述模具上的模具侧标记、以及所述基准标记和所述基板上的对准标记;以及
控制单元,其被构造为基于来自所述检测光学系统的检测结果,来进行所述压印处理,和控制检测处理以进行所述模具与所述基板之间的对准,所述检测处理包括所述模具台和所述基板台的定位以及所述检测光学系统进行的检测,
其中,所述检测处理使所述检测光学系统在所述模具侧标记与所述对准标记彼此分离的第一状态下,检测所述模具侧标记和所述对准标记,并且
其中,所述检测处理包括第一检测处理和第二检测处理,作为检测所述模具侧标记和所述基准标记的处理,在所述第一检测处理中,使所述检测光学系统在以使得所述基准标记位于所述检测光学系统的视野外的方式定位所述基板台、并且以使得所述模具侧标记位于所述检测光学系统的焦平面上的方式定位所述模具台的第二状态下,检测所述模具侧标记,在所述第二检测处理中,使所述检测光学系统在以使得所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的方式定位所述模具台、并且以使得所述基准标记位于所述视野内和所述焦平面上的方式定位所述基板台的第三状态下,检测所述基准标记,在所述模具侧标记针对所述检测光学系统散焦的情况下,与所述模具侧标记处于所述第一状态的情况相比,所述模具侧标记从所述焦平面分离得更远。
2.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元基于所述第一检测处理的检测结果和所述第二检测处理的检测结果,来对所述模具的对准进行检测。
3.根据权利要求1所述的压印装置,
其中,所述模具包括具有与要在所述基板上形成的所述图案相对应的凹凸图案的台面区域以及所述台面区域的周围的去台面区域,并且
其中,所述控制单元以使得来自所述基准标记的光不穿过所述台面区域而穿过所述去台面区域的方式,来使所述基板台在所述第三状态下被定位。
4.根据权利要求1所述的压印装置,
其中,所述模具包括具有与要在所述基板上形成的所述图案相对应的凹凸图案的台面区域,并且
其中,所述控制单元以使得来自所述基准标记的光穿过所述台面区域的、所述凹凸图案的节距不大于来自所述基准标记的光的波长的区域的方式,来使所述基板台在所述第三状态下被定位。
5.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元选择进行所述检测处理的多个检测模式中的一个,所述多个检测模式包括在进行所述第一检测处理之后进行所述第二检测处理的模式,以及在进行所述第二检测处理之后进行所述第一检测处理的模式。
6.根据权利要求1所述的压印装置,其中,在所述检测处理中所述检测光学系统被固定在同一位置处。
7.根据权利要求1所述的压印装置,
其中,所述压印装置包括多个检测光学系统,并且
所述多个检测光学系统中的各个检测所述模具上的多个模具侧标记中的相应模具侧标记和所述基板台上的多个基准标记中的相应基准标记。
8.根据权利要求7所述的压印装置,
其中,所述控制单元基于由所述多个检测光学系统分别检测的所述多个模具侧标记和所述多个基准标记,来获得所述模具的形状,并且
其中,所述压印装置还包括校正单元,所述校正单元被构造为基于所获得的形状来校正所述模具的形状。
9.根据权利要求1所述的压印装置,所述压印装置还包括:
第一改变单元,其被构造为改变所述检测光学系统的检测系统的数值孔径;以及
第二改变单元,其被构造为改变所述检测光学系统的照明系统的光瞳面的光强度分布。
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