[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法、显示装置在审
申请号: | 201510007503.6 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN104460105A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 黎敏;姜晶晶;万冀豫;吴洪江 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 及其 制造 方法 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板,包括:透明基板,设置在所述透明基板上的黑矩阵膜层和彩色膜层,以及设置在所述黑矩阵膜层上方的隔垫物膜层;其中,所述隔垫物膜层包括:第一隔垫物和第二隔垫物;其特征在于,所述彩色膜层位于所述隔垫物膜层的下方,覆盖所述第一隔垫物所在区域的全部或部分,且不覆盖所述第二隔垫物所在区域。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色膜层包括多个阵列排布的像素图案;
与任一所述第一隔垫物相邻的其中一个像素图案的延伸覆盖该第一隔垫物所在区域的全部或部分,或者,与任一所述第一隔垫物相邻的两个像素图案的分别延伸覆盖该第一隔垫物所在区域的全部或部分。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,在所述与任一所述第一隔垫物相邻的两个像素图案的分别延伸覆盖该第一隔垫物所在区域的全部的情况下,与所述第一隔垫物相邻的两个像素图案相接触。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述相接触的两个像素图案的颜色一致,且为一体结构。
5.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵膜层包括:多条横纵交叉的黑矩阵线条;
其中,至少两条第一方向的黑矩阵线条上方均设置有所述第一隔垫物以及所述第二隔垫物。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,在同一条第一方向的黑矩阵线条上方的所述第一隔垫物和所述第二隔垫物间隔设置。
7.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述至少两条第一方向的黑矩阵线条上方所设置的隔垫物数目相等,且在与所述第一方向垂直的第二方向上,任一第一方向的黑矩阵线条上方所设置的隔垫物与其他第一方向的黑矩阵线条上方所设置的隔垫物一一对齐。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,在所述第二方向上,所述第一隔垫物和所述第二隔垫物间隔设置。
9.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,还包括:保护膜层,所述保护膜层覆盖所述彩色膜层和所述黑矩阵膜层,所述隔垫物膜层位于所述保护膜层上方。
10.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,还包括:屏蔽保护膜层,所述屏蔽保护膜层位于所述透明基板与所述黑矩阵膜层以及彩色膜层相反的一侧。
11.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一隔垫物的底端与所述第二隔垫物的底端的高度差为0.5-1.0μm。
12.根据权利要求1-4任一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一隔垫物的顶端与所述第二隔垫物的顶端的高度差为0.3-0.8μm。
13.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-12任一项所述的彩膜基板。
14.一种彩膜基板的制造方法,包括:在透明基板上设置黑矩阵膜层的步骤,在透明基板上设置彩色膜层的步骤,以及在设置有所述黑矩阵膜层以及所述彩色膜层的透明基板上,在所述黑矩阵膜层上方设置隔垫物膜层的步骤;其中,所述隔垫物膜层包括:第一隔垫物和第二隔垫物;其特征在于,所述在透明基板上设置彩色膜层的步骤包括:
在所述黑矩阵膜层开口所围成的区域、以及待设置所述第一隔垫物所在区域的全部或部分设置彩色膜层,且所述彩色膜层不覆盖所述第二隔垫物所在区域。
15.根据权利要求14所述的制造方法,其特征在于,在所述黑矩阵膜层上方设置隔垫物膜层的步骤之前,还包括:在设置有所述黑矩阵膜层以及所述彩色膜层的透明基板上设置保护膜层的步骤。
16.根据权利要求14所述的制造方法,其特征在于,还包括:在透明基板与所述黑矩阵膜层以及彩色膜层相反的一侧设置屏蔽保护膜层的步骤。
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