[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法、显示装置在审
申请号: | 201510007503.6 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN104460105A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 黎敏;姜晶晶;万冀豫;吴洪江 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩膜基板 及其 制造 方法 显示装置 | ||
本申请要求于2012年12月10日提交中国专利局、申请号为201210530719.7、发明名称为“一种彩膜基板及其制造方法、显示装置”的中国专利申请的分案申请,其全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制造方法、显示装置。
背景技术
目前液晶显示装置包括对盒成形的彩膜基板和阵列基板,并需要在两基板间设置隔垫物以支撑两基板,形成用于填充液晶的空间。
如图1、2所示,现有技术中彩膜基板包括:透明基板1、黑矩阵膜层2,彩色膜层3,保护膜层4以及隔垫物膜层5。为提高显示品质,隔垫物膜层5一般包含两种隔垫物:主隔垫物6和辅隔垫物7;其中,主隔垫物6起主要支撑作用,而辅隔垫物7起次要支撑作用。通常情况下,主隔垫物6的高度大于辅隔垫物7的高度。
为了制作上述两种高度不同的隔垫物,目前有两种方法。一是,在形成隔垫物膜层5的过程中,使用半色调或灰色调掩膜板进行曝光,通过控制形成不同隔垫物曝光时所需的光强,在显影后实现高度差设计;二是,使用普通掩膜板进行曝光,这就需要将两种不同的隔垫物设计成不同的尺寸(底部横截面的大小以及高度),辅隔垫物的尺寸较小,需要严格控制。
然而,由于半色调或灰色调掩膜板比较昂贵,故采用前者的方法会使得成本高昂;若采用后者的方法,由于隔垫物高度仅在尺寸很小时才随尺寸变化,从而辅隔垫物7必须设计得很小才能实现两种隔垫物间的高度差,因此若要实现预定的高度差,辅隔垫物7的尺寸受到很大的限制。
发明内容
本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制造方法、显示装置,用以解决半色调或灰色调掩膜板所带来的成本高昂,以及普通掩膜板对辅隔垫物尺寸的限制问题。
为解决上述问题,本发明的实施例采用如下技术方案:
本发明实施例提供了一种彩膜基板,包括:透明基板,设置在所述透明基板上的黑矩阵膜层和彩色膜层,以及设置在所述黑矩阵膜层上方的隔垫物膜层;其中,所述隔垫物膜层包括:第一隔垫物和第二隔垫物;所述彩色膜层位于所述隔垫物膜层的下方,覆盖所述第一隔垫物所在区域的全部或部分,且不覆盖所述第二隔垫物所在区域。
可选的,所述彩色膜层包括多个阵列排布的像素图案;与任一所述第一隔垫物相邻的其中一个像素图案的延伸覆盖该第一隔垫物所在区域的全部或部分,或者,与任一所述第一隔垫物相邻的两个像素图案的分别延伸覆盖该第一隔垫物所在区域的全部或部分。
可选的,在所述与任一所述第一隔垫物相邻的两个像素图案的分别延伸覆盖该第一隔垫物所在区域的全部的情况下,与所述第一隔垫物相邻的两个像素图案相接触。
可选的,所述相接触的两个像素图案的颜色一致,且为一体结构。
可选的,所述黑矩阵膜层包括:多条横纵交叉的黑矩阵线条;其中,至少两条第一方向的黑矩阵线条上方均设置有所述第一隔垫物以及所述第二隔垫物。
可选的,在同一条第一方向的黑矩阵线条上方的所述第一隔垫物和所述第二隔垫物间隔设置。
可选的,所述至少两条第一方向的黑矩阵线条上方所设置的隔垫物数目相等,且在与所述第一方向垂直的第二方向上,任一第一方向的黑矩阵线条上方所设置的隔垫物与其他第一方向的黑矩阵线条上方所设置的隔垫物一一对齐。
可选的,在所述第二方向上,所述第一隔垫物和所述第二隔垫物间隔设置。
可选的,所述的彩膜基板,还包括:保护膜层,所述保护膜层覆盖所述彩色膜层和所述黑矩阵膜层,所述隔垫物膜层位于所述保护膜层上方。
可选的,所述的彩膜基板,还包括:屏蔽保护膜层,所述屏蔽保护膜层位于所述透明基板与所述黑矩阵膜层以及彩色膜层相反的一侧。
可选的,所述第一隔垫物的底端与所述第二隔垫物的底端的高度差为0.5-1.0μm。
可选的,所述第一隔垫物的顶端与所述第二隔垫物的顶端的高度差为0.3-0.8μm。
本发明实施例提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的任一种所述的彩膜基板。
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