[发明专利]光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法有效
申请号: | 201510036077.9 | 申请日: | 2015-01-23 |
公开(公告)号: | CN104808439B | 公开(公告)日: | 2019-12-31 |
发明(设计)人: | 朴成均;朴廷敏;李政洙;金智贤;田俊;曹基铉;尹赫敏;金珍善;吕泰勋;金柄郁 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/004;H01L21/77 |
代理公司: | 11018 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人: | 潘怀仁;王珍仙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 组合 制造 薄膜晶体管 方法 | ||
1.一种光致抗蚀剂组合物,包含:
100重量份的丙烯酰基共聚物;
0.1重量份至30重量份的光引发剂;
1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体;以及
1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体,所述第二丙烯酸酯单体是选自由以下化学式1至4表示的化合物的组中的至少一种:
<化学式1>
其中,在化学式1中,R1独立地表示C2-C10亚烷基基团或C2-C10氧基亚烷基基团,以及R2独立地表示氢原子或C1-C10烷基基团,
<化学式2>
其中,在化学式2中,R4独立地表示C1-C10亚烷基基团或C1-C10氧基亚烷基或聚氧基亚烷基基团,R5表示羟甲基基团、C3-C10烷基基团或C3-C10烷氧基基团,以及R3独立地表示氢原子或C1-C10烷基基团,
<化学式3>
其中,在化学式3中,R6表示亚苯基基团、亚三环癸基基团、亚金刚烷基基团、亚降冰片烷基基团、双酚A基团或双酚F基团,并且在化学式3中,R7独立地表示氢原子或具有1至10个碳原子的烷基基团,
<化学式4>
其中,在化学式4中,R8表示C2-C20二烷基醚基团。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,进一步包括溶剂,使得所述光致抗蚀剂组合物的固体含量为按重量计10%至50%。
3.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,其中,所述丙烯酰基共聚物通过经由自由基聚合反应使包括不饱和烯烃化合物和不饱和羧酸的单体共聚而制备。
4.根据权利要求3所述的光致抗蚀剂组合物,其中,所述丙烯酰基共聚物的重均分子量是3,000至30,000。
5.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,其中,所述第一丙烯酸酯单体包括选自以下的组中的至少一种:二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五丙烯酸酯、二季戊四醇烷醇基五丙烯酸酯、以及己内酰胺取代的二季戊四醇六丙烯酸酯。
6.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,其中,所述第二丙烯酸酯单体包括选自由以下化学式6至10表示的化合物的组中的至少一种,
<化学式6>
<化学式7>
<化学式8>
<化学式9>
其中,在化学式9中,n表示1至3的整数,
<化学式10>
7.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,其中,所述光引发剂包括肟-酯化合物。
8.根据权利要求7所述的光致抗蚀剂组合物,其中,所述光引发剂包括由以下化学式12表示的化合物:
<化学式12>
9.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物,进一步包含相对于100重量份的所述丙烯酰基共聚物为1重量份至50重量份的多官能丙烯酸酯低聚物,所述多官能丙烯酸酯低聚物包括选自以下的组中的至少一种:脂肪族氨基甲酸乙酯丙烯酸酯低聚物、芳香族氨基甲酸乙酯丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、环氧甲基丙烯酸酯低聚物、硅丙烯酸酯低聚物、三聚氰胺丙烯酸酯低聚物、以及树枝状丙烯酸酯低聚物。
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