[发明专利]光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法

说明书

本发明提供了光致抗蚀剂组合物及制造薄膜晶体管基板的方法。光致抗蚀剂组合物包含相对于约100重量份的丙烯酰基共聚物为约0.1重量份至约30重量份的光引发剂、约1重量份至50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体、约1重量份至50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体。

技术领域

实施方式涉及光致抗蚀剂组合物。更具体地，实施方式涉及光致抗蚀剂组合物以形成用于显示器件的绝缘层、以及使用光致抗蚀剂组合物制造薄膜晶体管基板的方法。

背景技术

通常，用于显示器件的显示基板包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管用作用于驱动像素单元、连接至薄膜晶体管的信号线、以及像素电极的开关元件。信号线包括提供栅极信号的栅极线、以及与栅极线交叉并且提供数据信号的数据线。

显示基板可以包括用于绝缘电极和线或用于整平基板的有机绝缘层。例如，显示基板可以包括覆盖薄膜晶体管的有机绝缘层。像素电极可以通过穿过有机绝缘层形成的接触孔连接至漏电极。

发明内容

实施方式涉及一种光致抗蚀剂组合物，包括：约100重量份的丙烯酰基共聚物(丙烯酸基共聚物，acryl-copolymer)、约0.1重量份至约30重量份的光引发剂、约1重量份至约50重量份的包括至少五个官能团的第一丙烯酸酯单体、以及约1重量份至约50重量份的包括至多四个官能团的第二丙烯酸酯单体，第二丙烯酸酯单体是选自由以下化学式1至5表示的化合物的组中的至少一种，

<化学式1>

其中，在化学式1中，R₁独立地表示C2-C10亚烷基基团或C2-C10氧基亚烷基基团(氧化烯基，oxyalkylene group)，以及R₂独立地表示氢原子或C1-C10烷基基团，

<化学式2>

其中，在化学式2中，R₄独立地表示C1-C10亚烷基基团或C1-C10氧基亚烷基或聚氧基亚烷基基团(聚氧化烯基，polyoxyalkylene group)，R₅表示羟甲基基团、C3-C10烷基基团或C3-C10烷氧基基团，以及R₃独立地表示氢原子或C1-C10烷基基团，

<化学式3>

其中，在化学式3中，R₆表示亚苯基基团、亚三环癸基基团、亚金刚烷基基团(adamantylene group)、亚降冰片烷基基团(norboranylene group)、双酚A基团或双酚F基团，以及在化学式3中，R₇独立地表示氢原子或具有1至10个碳原子的烷基基团，

<化学式4>

其中，在化学式4中，R₈表示C2-C20二烷基醚基团，

<化学式5>

其中，在化学式5中，R₁独立地表示C1-C10亚烷基基团或C1-C10氧基亚烷基基团。

光致抗蚀剂组合物可以进一步包括溶剂，使得光致抗蚀剂组合物的固体含量为按重量计约10％至约50％。

可以通过经由自由基聚合反应使包括不饱和烯烃化合物以及不饱和羧酸的单体共聚而制备丙烯酰基共聚物。

丙烯酰基共聚物的重均分子量可以是约3,000至约30,000。