[发明专利]阵列基板以及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，包括显示区以及包围于所述显示区外围的非显示区，所述非显示区设置有用于连接外部控制信号的信号单元以及未设置所述信号单元的间隙区域，其特征在于，所述间隙区域内设置有辅助单元，所述辅助单元与所述信号单元具有相同的高度且分别电性隔离，所述辅助单元表面与所述信号单元的局部表面具有相同的图案。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号单元在所述非显示区的边缘设置有多个平行排列的条状接线端；

所述间隙区域对应位于所述非显示区的边缘，所述辅助单元包括多个平行排列的条状结构，多个所述条状结构的排列方向与所述条状接线端的排列方向相同，且多个所述条状结构之间的间距与所述信号单元中多个条状接线端之间的间距相同。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，多个所述条状结构的长度和宽度分别与所述条状接线端的长度和宽度对应相等。

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区设置有控制元件，所述信号单元与所述控制元件和外部控制信号供给单元连接，所述辅助单元与所述控制元件具有相同的层结构。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述控制元件为薄膜晶体管阵列，所述薄膜晶体管包括栅极、栅绝缘层、有源层、同层设置的源极和漏极、钝化层以及像素电极层，同行/列排列的所述薄膜晶体管的栅极与同一栅线连接；

所述辅助单元包括与所述薄膜晶体管各层对应的辅助栅极层、辅助栅绝缘层、辅助源漏电极层、辅助钝化层以及设置于所述辅助钝化层之上的辅助像素电极层，所述辅助单元中的各层的厚度与所述薄膜晶体管的对应各层的厚度分别相同。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述辅助单元中的各层与所述薄膜晶体管的各层分别采用相同的材料对应形成，所述辅助单元中的各层与所述薄膜晶体管的各层分别对应在同一构图工艺中形成。

7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述条状接线端开设有连接过孔；

所述条状结构在与所述条状接线端中所述连接过孔相当的位置开设有辅助过孔，所述辅助过孔与所述连接过孔具有相同的尺寸和深度。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述辅助过孔通过在所述辅助栅绝缘层开设辅助栅绝缘层过孔，和/或，在所述辅助钝化层开设辅助钝化层过孔而形成。

9.根据权利要求1-8任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述非显示区中靠近所述显示区的区域还设置有测试单元，所述测试单元对应设置于与所述辅助单元中所述条状结构对应的分布区域；

所述测试单元包括多个分离设置的、用于与所述薄膜晶体管连接的测试盘，所述测试盘开设有测试过孔。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的阵列基板。