[发明专利]基板处理方法和基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，在该基板处理方法中使用基板处理装置，该基板处理装置包括处理容器和旋转台，该旋转台以能够旋转的方式设于所述处理容器内且具有基板载置部，其中，

该基板处理方法包括如下工序：

载置工序，在该载置工序中，将基板载置于所述基板载置部；

处理工序，在该处理工序中，向所述处理容器内供给处理气体而对所载置的所述基板进行处理；

供给水蒸气工序，在该供给水蒸气工序中，在将所述基板载置于所述基板载置部的状态下，向所述处理容器内至少供给水蒸气；以及

输出工序，在该输出工序中，输出所述基板载置部上的所述基板，

其中，反复进行规定的次数的如下工序：所述载置工序、所述处理工序、所述供给水蒸气工序、以及所述输出工序，

其中，所述载置工序和所述输出工序是使用输送臂来实施的，

在所述输出工序中所述输送臂输出所述基板时，通过在该基板被输出后的所述基板载置部上载置接下来的所述基板，从而实施所述输出工序之后的所述载置工序。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，

该基板处理方法还包括以下工序：在所述处理容器内堆积的累积膜的膜厚超过10μm之后，对所述处理容器内进行清洁。

3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其中，

所述累积膜是氧化物膜。

4.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，

所述供给水蒸气工序是通过向保持在规定的温度的所述处理容器内供给氢气和氧气而实施的。

5.根据权利要求1所述的基板处理方法，其中，

所述供给水蒸气工序具有：

气化工序，在该气化工序中，使保持在贮水槽内的水气化；

将由所述气化工序获得的水蒸气供给到所述处理容器内的工序。

6.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括：

处理容器；

旋转台，其以能够旋转的方式设于所述处理容器内且具有基板载置部；

输送臂，其能够输送基板；

第1处理气体供给部件，其用于向所述旋转台的表面供给第1处理气体；

第2处理气体供给部件，其用于向所述旋转台的表面供给第2处理气体；

分离气体供给部件，其设于所述旋转台的旋转方向上的、所述第1处理气体供给部件与所述第2处理气体供给部件之间和所述第2处理气体供给部件与所述第1处理气体供给部件之间，该分离气体供给部件用于供给使所述第1处理气体和所述第2处理气体分离的分离气体；

氧气供给部件，其用于向所述旋转台的表面供给氧气；

氢气供给部件，其用于向所述旋转台的表面供给氢气；以及

控制部，其用于至少对所述旋转台、所述输送臂、所述第1处理气体供给部件、所述第2处理气体供给部件、所述氧气供给部件以及所述氢气供给部件的工作进行控制，

所述控制部对如下工作进行控制，并反复进行规定次数：

使用所述输送臂将基板载置于所述基板载置部；

通过自所述第1处理气体供给部件和所述第2处理气体供给部件向所述处理容器内供给这些处理气体来对所载置的所述基板进行处理；

在将所述基板载置于所述基板载置部的状态下自所述氧气供给部件和所述氢气供给部件向所述处理容器内至少供给水蒸气；以及

利用所述输送臂自所述基板载置部输出所述基板，

其中，在利用所述输送臂自所述基板载置部输出所述基板时，在该基板被输出后的所述基板载置部上载置接下来的所述基板。

7.一种基板处理装置，其中，

该基板处理装置包括：

处理容器；

旋转台，其以能够旋转的方式设于所述处理容器内且具有基板载置部；

输送臂，其能够输送基板；

第1处理气体供给部件，其用于向所述基板的表面供给第1处理气体；

第2处理气体供给部件，其用于向所述基板的表面供给第2处理气体；

分离气体供给部件，其设于所述旋转台的旋转方向上的、所述第1处理气体供给部件与所述第2处理气体供给部件之间和所述第2处理气体供给部件与所述第1处理气体供给部件之间，该分离气体供给部件用于供给使所述第1处理气体和所述第2处理气体分离的分离气体；

贮水槽，其用于贮存水，该贮水槽以能够加热所述水的方式构成；

导入管，其用于将所述贮水槽和所述基板处理装置连接起来且在该导入管上设有流量调整阀；以及

控制部，其用于至少对所述旋转台、所述输送臂、所述第1处理气体供给部件、所述第2处理气体供给部件、所述贮水槽的加热以及所述流量调整阀的工作进行控制，

所述控制部对如下工作进行控制，并反复进行规定次数：

使用所述输送臂将基板载置于所述基板载置部；

通过自所述第1处理气体供给部件和所述第2处理气体供给部件向所述处理容器内供给这些处理气体来对所载置的所述基板进行处理；

在将所述基板载置于所述基板载置部的状态下通过加热所述贮水槽和经由所述流量调整阀来向所述处理容器内至少供给水蒸气；以及

利用所述输送臂自所述基板载置部输出所述基板，

其中，在利用所述输送臂自所述基板载置部输出所述基板时，在该基板被输出后的所述基板载置部上载置接下来的所述基板。