[发明专利]涂布装置有效

专利信息
申请号: 201510053016.3 申请日: 2015-02-02
公开(公告)号: CN104841607B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: 伊藤隆介;高村幸宏;相良秀一;大宅宗明 申请(专利权)人: 斯克林集团公司
主分类号: B05C5/00 分类号: B05C5/00;B05C11/10
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 杨贝贝,臧建明
地址: 日本京都府京都市上京区堀*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种涂布装置,将涂布液涂布于半导体晶片(wafer)、液晶显示装置用玻璃(glass)基板、等离子体显示面板(Plasma Display Panel,PDP)用玻璃基板、有机电致发光(Electroluminescence,EL)显示面板用玻璃基板、太阳电池用基板、磁盘或光盘用玻璃或陶瓷(ceramic)基板等各种被处理基板。

背景技术

例如,在有机EL显示装置的制造时,作为将包含空穴(hole)传输材料的流动性材料或包含有机EL材料的流动性材料等涂布液涂布于基板的涂布装置,已知有如下装置:使连续地喷出涂布液的多个喷嘴(nozzle),相对于基板而在主扫描方向及与主扫描方向正交的副扫描方向上相对移动,借此,将涂布液呈条纹状地涂布于基板上的涂布区域(例如,专利文献1)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2011-72974号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

对于此种涂布装置,要求涂布于基板上的涂布液的膜厚的均匀性。为了使涂布液的膜厚均匀,需要使从喷嘴喷出的涂布液的流量均匀。

然而,在通过涂布液供给管对移动的喷嘴供给涂布液的构成中产生如下问题:在涂布液供给管内流动的涂布液被赋予伴随喷嘴移动的惯性力,因所述惯性力的影响而导致从喷嘴喷出的涂布液的流量紊乱。

本发明是为了解决所述问题而完成的,目的在于提供一种涂布装置,在利用涂布液供给管对移动的喷嘴输送涂布液的构成中,可减少从喷嘴喷出的涂布液的流量紊乱。

[解决问题的技术手段]

本发明的第一实施方式的涂布装置包括:基板保持部,保持基板;涂布单元(unit),保持至少一个喷嘴,所述喷嘴对保持于所述基板保持部的所述基板的主表面喷出涂布液;移位机构,使所述涂布单元沿着主扫描方向移位,所述主扫描方向与保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行;配管,为至少一个,将从涂布液供给源供给的涂布液输送至所述至少一个喷嘴;以及压力变动吸收部,为至少一个,吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动;所述配管具有上游侧的第一管路区间与下游侧的第二管路区间,所述第二管路区间相对地固定配置于所述涂布单元,所述第二管路区间具有所述第二管路区间中的上游侧的上游侧固定管路区间、与所述第二管路区间中的下游侧的下游侧固定管路区间,所述下游侧固定管路区间沿着与所述主扫描方向正交的面内而配设,所述压力变动吸收部设于所述下游侧固定管路区间。

本发明的第二实施方式的涂布装置是根据第一实施方式的涂布装置,其中所述第二管路区间具有分支部,所述分支部使被捆扎的多个所述配管分支,所述第二管路区间中的比所述分支部更靠上游侧为所述上游侧固定管路区间,所述第二管路区间中的比所述分支部更靠下游侧为所述下游侧固定管路区间,在所述第一管路区间及所述上游侧固定管路区间中,多个所述配管被捆扎。

本发明的第三实施方式的涂布装置包括:基板保持部,保持基板;涂布单元,保持至少一个喷嘴,所述喷嘴对保持于所述基板保持部的所述基板的主表面喷出涂布液;移位机构,使所述涂布单元沿着主扫描方向移位,所述主扫描方向与保持于所述基板保持部的所述基板的所述主表面平行;配管,为至少一个,将从涂布液供给源供给的涂布液输送至所述至少一个喷嘴;以及,压力变动吸收部,为至少一个,吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动;所述配管具有上游侧的第一管路区间与下游侧的第二管路区间,所述第二管路区间相对地固定配置于所述涂布单元,所述第二管路区间配设于与所述主扫描方向正交的面内,所述压力变动吸收部设于所述第二管路区间。

本发明的第四实施方式的涂布装置是根据第三实施方式的涂布装置,其中还具有配管支撑构件,所述配管支撑构件与利用所述移位机构使所述涂布单元沿着所述主扫描方向的移位同步地,沿着所述主扫描方向移位,所述配管支撑构件配设于所述第一管路区间的中途,在所述第一管路区间中的比所述配管支撑构件更靠上游侧,多个所述配管被捆扎,在所述第一管路区间中的比所述配管支撑构件更靠下游侧,多个所述配管分支。

本发明的第五实施方式的涂布装置是根据第一至第四中任一实施方式的涂布装置,其中所述压力变动吸收部具有可挠性的第一配管,所述第一配管的管径大于所述第一管路区间的配管的管径,所述配管的一部分包含所述第一配管。

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