[发明专利]光刻装置、光刻系统和物品的制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，其执行在从涂覆装置输送的基板上形成图案的处理，所述涂覆装置利用抗蚀剂涂覆所述基板，所述光刻装置包括：

获得单元，其被构造为从所述涂覆装置获得第一指定信息，所述第一指定信息指定通过所述涂覆装置涂覆有抗蚀剂且要被执行所述处理的多个基板中的、从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的处理对象基板；以及

处理单元，其被构造为基于所述第一指定信息，从与所述多个基板分别对应的多个偏移校正信息中，选择与所述处理对象基板对应的偏移校正信息，并且利用与所述处理对象基板所属的批次对应的校正值以及所选择的偏移校正信息对所述处理对象基板执行所述处理。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述第一指定信息包括用于标识基板的基板标识符、以及表示容纳基板的槽的槽编号中的至少一者。

3.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述偏移校正信息包括当执行所述处理时用于对准基板的信息。

4.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述获得单元从与所述光刻装置相连接的主计算机获得第二指定信息，所述第二指定信息指定所述多个基板中的各个基板，并且

所述光刻装置还包括检测单元，该检测单元被构造为基于所述第一指定信息和所述第二指定信息，检测所述多个基板中的、没有从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的基板。

5.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述处理单元包括投影光学系统，该投影光学系统被构造为将与所述图案对应的图像投影到所述处理对象基板上。

6.一种光刻装置，其执行在从涂覆装置输送的基板上形成图案的处理，所述涂覆装置利用抗蚀剂涂覆所述基板，所述光刻装置包括：

获得单元，其被构造为从所述涂覆装置获得第一指定信息，并且从与所述光刻装置相连接的主计算机获得第二指定信息，所述第一指定信息指定通过所述涂覆装置涂覆有抗蚀剂且要被执行所述处理的多个基板中的、从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的处理对象基板，所述第二指定信息指定所述多个基板中的各个基板；

检测单元，其被构造为基于所述第一指定信息和所述第二指定信息，检测所述多个基板中的、没有从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的基板；以及

处理单元，其被构造为基于检测单元获得的检测结果，从与所述多个基板分别对应的多个偏移校正信息中选择一个偏移校正信息，以建立所述处理对象基板与所选择的偏移校正信息之间的一致性，并且利用与所述处理对象基板所属的批次对应的校正值以及所选择的偏移校正信息对所述处理对象基板执行所述处理。

7.根据权利要求6所述的光刻装置，其中，所述处理单元包括投影光学系统，所述投影光学系统被构造为将与所述图案对应的图像投影到所述处理对象基板上。

8.一种光刻系统，其包括涂覆装置和光刻装置，所述涂覆装置被构造为利用抗蚀剂来涂覆基板，所述光刻装置被构造为执行在从所述涂覆装置输送的基板上形成图案的处理，

所述涂覆装置包括通知单元，所述通知单元被构造为向所述光刻装置通知第一指定信息，所述第一指定信息指定通过所述涂覆装置涂覆有抗蚀剂且要被执行所述处理的多个基板中的、从所述涂覆装置输送至所述光刻装置的处理对象基板，并且

所述光刻装置包括处理单元，所述处理单元被构造为基于由所述通知单元通知的所述第一指定信息，从与所述多个基板分别对应的多个偏移校正信息中选择与所述处理对象基板对应的偏移校正信息，并且利用与所述处理对象基板所属的批次对应的校正值以及所选择的偏移校正信息对所述处理对象基板执行所述处理。