[发明专利]基板处理方法

说明书

本申请是申请日为2011年8月19日、申请号为201110242631.0、发明名称为“基板处理方法以及基板处理装置”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及处理基板的基板处理方法以及基板处理装置。成为处理对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(Field Emission Display：场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

在制造半导体装置或液晶显示装置的工序中，例如逐张处理半导体晶片或液晶显示装置用玻璃基板等基板。具体地说，通过向基板上供给药液，利用药液处理基板的表面。然后，通过向基板上供给纯水，来冲洗基板上附着的药液。药液被冲洗掉之后，向基板上供给沸点比水的沸点低的IPA(异丙醇)，在基板上附着的纯水被置换为IPA。然后，通过使基板高速旋转，从基板除去附着在基板上的IPA，以干燥基板。

但是，在这样的基板处理方法中存在如下情况，即，在使基板干燥时，形成在基板的表面上的图案会倒塌。因此，在美国专利公报2010/0240219 A1中公开了为了防止图案倒塌，而在使基板的表面疏水化之后进行干燥的方法。具体地说，通过向基板上供给疏水剂，使基板的表面疏水化。然后，向基板上供给IPA，在基板上附着的疏水剂被置换为IPA。在疏水剂置换为IPA之后，向基板上供给纯水，从而在基板上附着的IPA被置换为纯水。然后，通过使基板高速旋转，来干燥基板。

如果使基板的表面充分疏水化，则能够抑制图案的倒塌。但是，在基板的表面未被充分疏水化的情况下，不能抑制图案的倒塌。即，在基板的表面仅局部地被疏水化的情况，或者处理液与基板的接触角不足够大的情况下，即使在将基板疏水化之后使基板干燥，也不能够抑制图案的倒塌。

如美国专利公报2010/0240219 A1记载的基板处理方法那样，在向基板供给一种疏水剂的情况下，基板的表面往往不能够被充分疏水化。另外，若基板上附着的处理液的表面张力大，则在使该基板干燥时，作用于图案的力也大。在美国专利公报2010/0240219 A1记载的基板处理方法中，使附着有纯水的基板干燥。但是，因为纯水的表面张力大，所以即使使基板疏水化，也不能充分抑制图案的倒塌。

另一方面，即使向形成有金属膜的基板供给作为疏水剂的硅烷化剂(Silylation Agent)，因为不能使金属膜疏水化，所以也不能使基板充分疏水化。但是，如果向基板供给使金属疏水化的金属类的疏水剂，则即使在基板上形成有金属膜的情况下，也能够使该金属膜疏水化。但是，根据本申请的发明人的研究，已知即使在使用了金属类的疏水剂的情况下，有时也不能使基板充分疏水化。

具体地说，金属类的疏水剂本身不稳定，因而需要在金属类的疏水剂中混合其他的溶剂(稀释溶剂)。但是，若在金属类的疏水剂中混合含有羟基的溶剂，则会导致金属类的疏水剂的能力(使基板疏水化的能力)降低。也就是说，在金属类的疏水剂中混合有含有羟基的溶剂或者向保持含有羟基的溶剂的基板上供给了金属类的疏水剂的情况下，不能充分地发挥金属类的疏水剂的能力。

而且，即使通过金属类的疏水剂使基板疏水化，若在供给了金属类的疏水剂之后向基板供给含有水的液体或蒸汽，则处理液与基板的接触角变小。因此，在干燥基板时，作用于图案的力(使图案倒塌的力)变大。而且，在基板的表面保持有水的状态下，向该基板的表面供给金属类的疏水剂，基板也不能充分疏水化。即，本申请发明人发现：即使向形成有金属膜的基板供给金属类的疏水剂，在存在水的情况下也不能使金属膜充分疏水化。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供能够抑制或防止图案的倒塌的基板处理方法以及基板处理装置。

本发明的一个实施方式提供一种基板处理方法，该基板处理方法包括：将疏水剂供给至基板来使所述基板的表面疏水化的疏水化工序；在所述疏水 化工序之后进行，使所述基板干燥的干燥工序；从所述疏水化工序结束之后到所述干燥工序结束为止，将所述基板保持为不与水接触的状态的工序。

基板的表面是基板本身的表面，在基板的表面形成有图案的情况下，还包括图案的表面。

根据该方法，向基板供给疏水剂，该基板的表面被疏水化。然后，使基板干燥。作为处理对象的基板从被疏水化之后到干燥为止保持不与水接触的状态。因而，能够防止在疏水剂供给至基板之后，因接触水而使基板的疏水性大幅降低。由此，能够抑制或防止图案的倒塌。