[发明专利]感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件在审

专利信息
申请号: 201510070740.7 申请日: 2015-02-11
公开(公告)号: CN104849962A 公开(公告)日: 2015-08-19
发明(设计)人: 黄伟杰;施俊安 申请(专利权)人: 奇美实业股份有限公司
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 贾静环
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 感光性 聚硅氧烷 组合 保护膜 具有 元件
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件。特别涉及一种用来形成具有良好断面形状及耐热性的保护膜的感光性聚硅氧烷组合物、具有良好断面形状及耐热性的保护膜及具有所述保护膜的元件。

背景技术

近年来,为了提升液晶显示器(liquid crystal display,LCD)以及有机电致发光显示器(organic electro-luminescence display,OELD)的精细度及解析度,习知以提高开口率的方法来达到上述目的。此方法是藉由将透明的平坦化膜(planarization film)作为保护膜并设置于薄膜电晶体管(thin-film transistor,TFT)的上部,藉此使资料线与像素电极可重叠,而实现了比习知技术更高的开口率。

一般而言,作为平坦化膜的材料需要兼具高耐热性、高透明性以及高介电常数的材料。日本特开平第7-98502号揭露一种含有酚醛树脂(Novolac resin)与醌二叠氮化合物(quinone diazide compound)的组合物。日本特开平第10-153854号及日本特开第2001-281853号揭露一种含有丙烯酸系树脂(Acrylic resins)及醌二叠氮化合物的组合物。但是,这些材料的耐热性不够,由于基板的高温处理而固化膜着色,而存在透明性降低的问题。

另一方面,习知以硅氧烷聚合物作为高耐热性、高透明性以及高介电常数的材料。为了赋予硅氧烷聚合物的感光性而组合了醌二叠氮化合物。举例而言,美国专利申请公开第2003-211407号揭露一种将末端具有酚性羟基的硅氧烷聚合物与醌二叠氮化合物组合的组合物;日本特开平第3-59667号揭露一种透过环化加成反应(cycloaddition reaction)而加成的酚性羟基或羧基等的硅氧烷聚合物与醌二叠氮化合物组合的组合物。然而,上述组合物因存在大量的醌二叠氮化合物或者在硅氧烷聚合物中存在酚性羟基而容易发生涂膜白化或热固化时着色等问题。更值得一提的是,上述习知的组合物皆存在断面形状不佳的问题,因此不利于应用。

于是,亟需发展一种感光性组合物,其所形成的保护膜具有良好的断面形状。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种用于保护膜的感光性聚硅氧烷组合物,其能够改善上述保护膜的断面形状不佳的问题。

本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物,其包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含酰胺酸基的硅烷化合物(C)以及溶剂(D)。聚硅氧烷(A)是由式(1)所示的化合物聚缩合来形成,

Si(R1)W(OR2)4-W

式(1)

式(1)中,R1各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;R2各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基;w表示选自0、1、2、3的整数。

含酰胺酸基的硅烷化合物(C)是由式(2)来表示

式(2)中,R3及R3’各自独立表示碳数为1至6的烷基、经取代的碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基、经取代的碳数为1至6的烷氧基、苯基、经取代的苯基、苯氧基或经取代的苯氧基;R4及R4’各自独立表示碳数为1至10的二价有机基;R5表示碳数为2至20的有机基。

在本发明的一实施例中,于式(1)中,R1至少一者为含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基。

在本发明的一实施例中,基于聚硅氧烷(A)的使用量为100重量份,邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为1至30重量份,含酰胺酸基的硅烷化合物(C)的使用量为0.1至10重量份,并且溶剂(D)的使用量为100至1200重量份。

在本发明的一实施例中,上述的感光性聚硅氧烷组合物,更包括含氮的杂环化合物(E),含氮的杂环化合物(E)选自由式(3)、式(4)、式(5)及式(6)表示的化合物所组成的族群,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇美实业股份有限公司,未经奇美实业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510070740.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top