[发明专利]光刻设备

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底台(WT)，所述衬底台包括用以保持衬底(W)的保持器；

衬底台位置测量系统，所述衬底台位置测量系统包括传感器头(1)和衬底台参考元件(4)；以及

另一位置测量系统，

其中衬底台参考元件(4)布置在衬底台(WT)的底侧面，

其中传感器头(1)配置成与衬底台参考元件(4)协同操作以确定衬底台(WT)的位置，

其中所述另一位置测量系统用以在衬底(W)的顶侧测量衬底台(WT)的位置。

2.如权利要求1所述的光刻设备，包括基本上静止的框架和传感器框架(3)，

其中传感器头(1)布置在传感器框架(3)上，

其中传感器框架(3)安装在所述基本上静止的框架上。

3.如权利要求2所述的光刻设备，包括投影系统PS，所述投影系统PS配置成将由图案形成装置(MA)赋予辐射束(B)的图案投影到衬底(W)的目标部分(C)，

其中投影系统PS安装至所述基本上静止的框架。

4.如权利要求2或3所述的光刻设备，包括被动阻尼件，所述被动阻尼件用以阻尼传感器框架(3)的移动。

5.如权利要求4所述的光刻设备，其中被动阻尼件是用于抑制传感器框架(3)的共振峰的微调质量阻尼件。

6.如权利要求2-5中任一项所述的光刻设备，包括主动阻尼件(15)，所述主动阻尼件(15)用以阻尼传感器框架(3)的移动。

7.如权利要求2-6中任一项所述的光刻设备，其中传感器框架(3)以在六个自由度上运动学的方式安装至所述基本上静止的框架上。

8.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中传感器头(1)布置在光刻设备的光轴(O)上。

9.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中传感器头(1)配置成确定衬底台(WT)在六个自由度上的位置。

10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中衬底台参考元件(4)由与衬底台(WY)的至少一部分相同的材料形成。

11.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中由具有低的热膨胀系数的轻量的材料制造传感器框架(3)。

12.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，包括遮蔽框架，所述遮蔽框架包括至少部分地包围传感器框架(3)的遮蔽材料。