[发明专利]感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图形的形成方法及触摸面板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201510086862.5 申请日: 2015-02-17
公开(公告)号: CN104865797A 公开(公告)日: 2015-08-26
发明(设计)人: 泽边贤;玉田春仙 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;李家浩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 感光性 树脂 组合 使用 元件 图形 形成 方法 触摸 面板 制造
【权利要求书】:

1.一种正型感光性树脂组合物,其含有:具有不饱和烃基且重均分子量为500~15000的改性酚醛树脂、重均分子量为5000~30000的间-对甲酚树脂、邻甲酚树脂和通过光生成酸的化合物。

2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物,所述邻甲酚树脂的重均分子量为500~5000。

3.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物,所述不饱和烃基的碳原子数为4~100。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的正型感光性树脂组合物,其进一步含有氟系表面活性剂。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的正型感光性树脂组合物,其进一步含有密合性赋予剂。

6.一种感光性元件,其具备支撑体和设置于该支撑体上的感光层,所述感光层是由权利要求1~5中任一项所述的正型感光性树脂组合物形成的层。

7.一种抗蚀图形的形成方法,其具备如下工序:

使用权利要求1~5中任一项所述的正型感光性树脂组合物或权利要求6所述的感光性元件,在基板上形成感光层的工序;

对所述感光层的规定部分照射活性光线,形成曝光部的工序;以及

将所述曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图形的工序。

8.根据权利要求7所述的抗蚀图形的形成方法,其进一步具备如下工序:

对由所述未曝光部构成的感光层的规定部分照射活性光线,形成曝光部的工序;以及

将所述曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图形的工序。

9.一种触摸面板的制造方法,其具备对通过权利要求7或8所述的抗蚀图形的形成方法形成了抗蚀图形的基板进行蚀刻处理的工序。

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