[发明专利]一种显示装置、阵列基板及其制备方法有效
申请号: | 201510098822.2 | 申请日: | 2015-03-06 |
公开(公告)号: | CN104656317B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 张雨 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1339 | 分类号: | G02F1/1339;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示装置 阵列 及其 制备 方法 | ||
1.一种阵列基板,所述阵列基板具有第一表面,所述第一表面上具有支撑隔垫物的支撑区域,其特征在于:
所述阵列基板内设置有一空腔结构;
所述支撑区域位于所述空腔结构在所述第一表面的正投影区域内,使得所述支撑区域在受到所述隔垫物的压力时,所述阵列基板的位于所述空腔结构和所述支撑区域之间的部分能够向所述空腔结构凹陷。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述空腔结构位于所述阵列基板的绝缘层内。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述空腔结构位于最靠近所述第一表面的绝缘层内。
4.根据权利要求1、2或3所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板上设置有至少一个从一导通区域延伸到所述空腔结构的导通孔,所述导通区域位于所述空腔结构在所述第一表面的正投影区域内。
5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述导通区域位于所述空腔结构在所述第一表面的正投影区域中除所述支撑区域之外的区域内。
6.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至5中任一权利要求所述的阵列基板。
7.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:
形成所述阵列基板,所述阵列基板具有第一表面,所述第一表面上具有支撑隔垫物的支撑区域,所述阵列基板内设置有一空腔结构;所述支撑区域位于所述空腔结构在所述第一表面的正投影区域内,使得所述支撑区域在受到所述隔垫物的压力时,所述阵列基板的位于所述空腔结构和所述支撑区域之间的部分能够向所述空腔结构凹陷。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述空腔结构位于所述阵列基板的绝缘层内。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述空腔结构位于最靠近所述第一表面的绝缘层内。
10.根据权利要求7、8或9所述的制备方法,其特征在于,所述阵列基板上设置有至少一个从一导通区域延伸到所述空腔结构的导通孔,所述导通区域位于所述空腔结构在所述第一表面的正投影区域内。
11.根据权利要求10所述的制备方法,其特征在于,所述导通区域位于所述空腔结构在所述第一表面的正投影区域中除所述支撑区域之外的区域内。
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