[发明专利]一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料有效

专利信息
申请号: 201510103020.6 申请日: 2015-03-09
公开(公告)号: CN104715805B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: 彭海;孙伟 申请(专利权)人: 无锡海古德新技术有限公司
主分类号: H01B1/22 分类号: H01B1/22;H01B13/00
代理公司: 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)11400 代理人: 高之波,邬玥
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 氮化 衬底 无铅厚膜 导体 浆料
【说明书】:

技术领域

发明涉及厚膜浆料领域领域,具体涉及一种用于氮化铝衬底的吸附力好、导电性能好的无铅厚膜导体浆料。

背景技术

目前,厚膜浆料工艺中常用的基片材料是性能较好的氧化铝,但随着对基片材料的热导率的要求(在射频产品方面还对介电常数等有要求),行业内首先想到的是发展氧化铍,因为它的功率特性最好;但在几年的发展中,氧化铍刚处于技术工艺半成熟状态时期,欧盟就提出了氧化铍的剧毒性,不够环保,对人体有伤害,因而在很多产品上被限制使用。ROHS(《关于限制在电子电器设备中使用某些有害成分的指令》)的提出更加剧了电子行业在材料上的更新换代,这样的背景下功率特性佳、具有环保特点的氮化铝(AlN)材料备受青睐。

氮化铝材料在厚膜浆料工艺方面的应用,在一些高端领域已逐渐替代了氧化铝陶瓷衬底,而一般传统的厚膜导体浆料主要针对氧化铝衬底发展进行研制,均采用硼硅酸铅体系或硼硅酸铅锌体系,但这些体系均以剧毒的氧化铅(PbO)为主要成分,PbO系玻璃料用于AlN陶瓷基片,在界面上发生反应,产生大量气泡,甚至使AIN陶瓷基片表面氧化,AIN陶瓷基片润湿性变差,导体浆料就失去附着力。硼硅酸铋体系是低熔点、适度膨胀,且具有良好湿润性的玻璃,但其中的主要成分氧化铋具有较高的活性,烧结时与氮化铝(AlN)发生反应释放气体,为了解决以上问题,熔制了氧化铋质量分数小于6的玻璃,研制出适用于AIN陶瓷基片的厚膜导体浆料。

发明内容

本发明的目的提供一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,解决上述现有技术问题中的一个或者多个。

根据本发明的一个方面,一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,由如下重量份的组分组成,

银钯金属粉75~85份,

玻璃粉6~12份,

有机载体10~20份。

本发明所提供的一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料,主要面对氮化铝(AlN)衬底研制的,适应于制造出大功率、高可靠、高频率、体积小、性能稳定的氮化铝(AlN)功率负载产品;采用的玻璃体系不含有剧毒氧化铅,且具有低熔点、适度膨胀和良好湿润性能等优点,不会与氮化铝(AlN)衬底发生反应,制得的厚膜导体层导电性能好,与氮化铝(AlN)衬底的附着力强。

在一些实施方式中,所述银钯金属粉的各组分的重量百分比为,银粉80~90%,钯粉10~20%。由此,可以具有电阻浆料的阻值更加稳定,分散更好,元件温度场更加均匀的效果。

在一些实施方式中,所述银粉的粒度为3~8μm,钯粉的粒度为0.5~2μm。此粒度范围的银钯粉所制得的导体浆料效果更好。

在一些实施方式中,玻璃粉包括如下成分,SiO2、B2O3、ZnO、Bi2O3、ZrO2、MgO,玻璃粉的各组分的重量百分比为,SiO2为10~30%,B2O3为10~20%,ZnO为35~55%,Bi2O3为5~15%,ZrO2为1~4%,MgO为1~4%。

在一些实施方式中,有机载体包括有机溶剂、增稠剂、表面活性剂和流平剂,有机载体包括如下重量份的组分,有机溶剂为88~95份,增稠剂为5~10份,表面活性剂为0.5~3份和流平剂为0.5~3份。

在一些实施方式中,所述有机溶剂为丁基卡比醇、二甲苯、无水乙醇的混合物,所述丁基卡比醇、二甲苯、无水乙醇等质量混合。

在一些实施方式中,所述增稠剂为聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇的混合物,所述聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇等质量混合。

在一些实施方式中,所述表面活性剂为卵磷脂,所述流平剂为蓖麻油。

一种用于氮化铝衬底的无铅厚膜导体浆料的制作方法,包括如下步骤:

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