[发明专利]镀镍‑铬部件及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有表面电镀层结构的工件及其电镀技术，特别是一种镀镍-铬部件及其制造方法。

本申请中电势差均为以相邻两层各自作为一个整体测得的标准电势之差。

背景技术

欧洲市场对环保要求的越来越严，以及各汽车厂对电镀耐蚀性的要求越来越高，目前铬电镀无法满足特定环境的腐蚀要求(同时达到耐盐雾试验80h和耐俄罗斯泥试验336h)。

电镀工业上一般应用先镀双层镍或三层镍再镀铬的方法提高工件的防腐能力,被广泛应用的双层镍工艺有:半光镍+光镍+无裂纹铬，被广泛应用的三层镍工艺有:半光镍+光镍+微孔镍+无裂纹铬，或者半光镍+光镍+微裂纹镍+无裂纹铬，但由于铬层自身的应力大,工业上很难得到一种完全没有裂纹或孔隙的铬电镀层(包括六价铬和三价铬镀层),暴露在空气中的铬电镀层被钝化后,其电位比镍正,当遇到腐蚀介质时，便与镍层构成腐蚀电池，造成镍层的腐蚀，在极端环境中会出现腐蚀过度，导致表面铬层的大面积脱落，影响产品的品质。为了进一步改善镀层的防腐能力，微孔镍和微裂纹镍被应用到光镍镀层上，其作用是通过不同的施镀工艺，促使产品表面产生大量的微裂纹或微孔，形成大量的微小的腐蚀通道，从而将腐蚀点分隔为肉眼不能识别的点，减少铬层的脱落，以达到提高使用过程中的外观品质。由于单独使用微孔镍或微裂纹镍，对耐蚀性的提高是有限的；以及微裂纹与三价铬配合，存在外观差等问题，导致对于高耐腐要求的产品存在不适用性。同时部分现有技术中，公开了改变微孔镍工艺来达到贵电势特性，从而满足三价铬耐腐蚀性能要求，但此此工艺技术无法实现与六价铬、三价铬共线生产，两种部件都满足高品质耐腐蚀要求。

现有技术中，如中国专利申请(公开号：CN 101988211 A)涉及一种具有优良防腐性能的金属表面多层镀镍工艺，电镀工艺流程为：A.塑料件表面金属化，B.光亮铜，C.半亮镍，D.高硫镍E.光亮镍，F.微孔镍，G.水洗，H.光亮铬，I.水洗，J.干燥；虽然该技术方案中采用该四层镍镍电镀液在塑料表面进行电镀在一定程度上提高了塑料件的抗腐蚀性，然而该工艺的抗腐蚀能力仍然无法达到含有除冰盐(CaCl₂)腐蚀环境的要求。而有关介绍微裂纹镍的工艺，如中国专利申请(公开号：CN101705508A)涉及一种用于微裂纹镍电镀的电镀液及其应用，该微裂纹镍电镀液的主要组成如下：氯化镍：180～260克/升，醋酸：20～60毫升/升，ELPELYT MR：80～120毫升/升，62A：1～5毫升/升,专利文献中描述的实例的评价实际限制为六价铬镀，没有谈及三价铬电镀，同时进验证存在耐腐蚀性能差，外观不符合等现象。

发明内容

为解决上述问题，本发明公开了一种镀镍-铬部件，通过有机结合地利用功能层多层镍结构的耐腐蚀特性和电化学性能，既保证了微孔镍层的外观光亮特性，又具有包含微孔镍的功能层的双重耐蚀性，可使产品达到超高耐蚀性和结构稳定性，即便在低电位镍层受到腐蚀后，微孔镍层同样可以起到支持和延缓腐蚀的效果。

本发明公开的镀镍-铬部件，该部件包括：

基材；这里本发明基材可以采用金属、塑料以及其它能够适用电镀的部件。

预处理镀层(预处理镀层可以包括化学镍层或者打底镍层中的任一或者两层复合，也在基材上不存在该层，具体选择视基材的材质而定，当化学镍层和打底镍层同时存在时，则化学镍层形成于基材上，打底镍层形成于化学镍层上)，其沉积在整个基材上，在预处理镀层上形成有镀铜层；和

功能层，其形成于镀铜层上，其中功能层包括低电位镍层和形成于低电位镍层上的微孔镍层；和

装饰层，其形成于微孔镍层上。

本发明公开的镀镍-铬部件的一种改进，装饰层为三价铬镀层或者六价铬镀层的任一，其中三价铬镀层可以为三价白铬镀层或者三价黑铬镀层或者其它种类的三价铬镀层。其中三价铬镀层上还可以形成钝化膜。

本发明公开的镀镍-铬部件的一种改进，微孔镍层与低电位镍层的电位差为10-120mv。

本发明公开的镀镍-铬部件的一种改进，低电位镍层包括有高硫镍层、微裂纹镍层中一层或两层之间的复合。进一步优选的，微孔镍层与低电位镍层之间的电位差为20-00mv。

当低电位镍层采用微裂纹镍层与高硫镍层的复合镀层时，微裂纹镍层与高硫镍层之间电位差为10-80mv内。这里当腐蚀到达低电位镍层时，由于微裂纹镍层的电位比高硫镍层的电位高，此时高硫镍层又被作为阳极性镀层优先腐蚀，延长微裂纹镍层的腐蚀，从而进一步提升了耐腐蚀度。

本发明公开的镀镍-铬部件的制造方法包括如下步骤：