[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理方法，用于基板处理装置，

该基板处理装置具有：

上表面处理液供给部，向被旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给处理液，

共用管路，用于向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的下表面的旋转中心附近供给液体，

下表面处理液供给部，向所述共用管路供给处理液，

温水供给部，向所述共用管路供给温水，

冷却机构，该冷却机构向所述共用管路的外周部供给流体来冷却所述共用管路；其特征在于，

在连续处理基板时，在向所述共用管路内供给温水后且在向所述共用管路供给处理液前，利用所述流体冷却所述共用管路。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，

该基板处理装置还具有有机溶剂供给部，所述有机溶剂供给部向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给有机溶剂，

在所述有机溶剂供给部向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给有机溶剂时，所述温水供给部向所述共用管路供给温水。

3.根据权利要求2所述的基板处理方法，其特征在于，所述有机溶剂为异丙醇。

4.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，

该基板处理装置具有多路阀，所述多路阀具有多个流入流出口，

所述共用管路与所述多路阀的多个流入流出口中的一个流入流出口连接，

所述下表面处理液供给部向所述多路阀的多个流入流出口中的一个流入流出口供给处理液，所述温水供给部向所述多路阀的流入流出口中的一个流入流出口供给温水。

5.根据权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，

该基板处理装置具有：

开闭阀，配设在所述多路阀与所述共用管路之间，

纯水供给部，向所述多路阀的流入流出口中的一个流入流出口供给常温的纯水，

抽吸部，从所述多路阀的流入流出口中的一个流入流出口对所述多路阀的内部空间进行抽吸。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，所述冷却机构向所述共用管路的外周部供给冷却水。

7.根据权利要求6所述的基板处理方法，其特征在于，所述冷却机构具有包围所述共用管路的管状构件，向当该管状构件的内部供给冷却水。

8.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，

该基板处理装置具有非活性气体供给单元，所述非活性气体供给单元在使被所述旋转卡盘保持的基板高速旋转来对所述基板进行干燥时，向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给非活性气体，

在所述非活性气体供给单元向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给非活性气体的期间，所述冷却机构向所述共用管路的外周部供给冷却水。

9.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，所述处理液为氢氟酸。

10.一种基板处理装置，

具有：

上表面处理液供给部，向被旋转卡盘保持且进行旋转的基板的上表面供给处理液，

共用管路，用于向被所述旋转卡盘保持且进行旋转的基板的下表面的旋转中心附近供给液体，

下表面处理液供给部，向所述共用管路供给处理液，

温水供给部，向所述共用管路供给温水；

该基板处理装置的特征在于，

该基板处理装置具有冷却机构，该冷却机构向所述共用管路的外周部供给流体来冷却所述共用管路，

所述冷却机构包括管状构件，该管状构件包围所述共用管路，并在所述旋转卡盘的中央部与所述旋转卡盘具有间隙来配置，

所述流体向所述共用管路和所述管状构件之间供给。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，

所述管状构件的上端被具有与所述共用管路的端缘连接的开口部的盖体封闭。