[发明专利]光刻装置、光刻方法、光刻系统及物品制造方法

权利要求书

1.一种光刻装置，其包括：

多个处理单元，所述多个处理单元中的各个被构造为对基板进行图案形成的处理；以及

控制器，其被构造为将所述多个处理单元分别根据关于所述图案形成的特性作为组进行管理，将一个或者更多个批次中包含的所述基板分配给所述组中的一个，并且如果在所述组中包含的处理单元处于待机状态时还存在分配给所述组的未处理的基板，则将所述未处理的基板分配给处于所述待机状态的处理单元并接着基于所述分配使所述处理单元对所述基板进行并行处理，其中，在开始所述并行处理之前，所述控制器从所述光刻装置的外部接收包括所述特性的请求，基于所接收到的请求指定可用来进行处理的所述处理单元的数量，并将包括所述处理单元的数量的信息发送到外部。

2.一种光刻方法，其使多个处理单元对基板并行进行图案形成的处理，所述光刻方法包括如下步骤：

将所述多个处理单元分别根据关于所述图案形成的特性作为组进行管理；

将一个或者更多个批次中包含的所述基板分配给所述组中的一个，并且如果在所述组中包含的处理单元处于待机状态时还存在分配给所述组的未处理的基板，则将所述未处理的基板分配给处于所述待机状态的处理单元；以及

基于在所述分配中确定的所述分配使所述处理单元对所述基板进行并行处理，

其中，在开始所述并行处理之前，控制器从所述光刻装置的外部接收包括所述特性的请求，指定能够在满足所述请求的同时进行处理的所述处理单元的数量，并将包括所述处理单元的数量的信息发送到外部。

3.一种光刻方法，其使多个处理单元对基板并行进行图案形成的处理，所述光刻方法包括如下步骤：

针对各个基板，通过给予多个分配方法的优先顺序来管理所述多个不同的分配方法，所述多个不同的分配方法用于将一个或者更多个批次中包含的未处理的基板分配给所述多个处理单元；

基于优先级高的分配方法，将所述基板分配给所述处理单元；以及

基于在所述分配中确定的所述分配，来使所述处理单元对所述基板进行并行处理。

4.一种光刻系统，所述光刻系统包括：

根据权利要求1所述的光刻装置；以及

预处理装置，其向所述光刻装置给送基板。

5.一种物品制造方法，所述物品制造方法包括如下步骤：

使用根据权利要求1所述的光刻装置，在基板上形成图案；以及

对在所述形成中形成了所述图案的基板进行处理。