[发明专利]光刻装置、光刻方法、光刻系统及物品制造方法

说明书

本发明提供光刻装置、光刻方法、光刻系统及物品制造方法，该光刻装置具有多个处理单元，所述多个处理单元中的各个被构造为对基板进行图案形成的处理。所述光刻装置还具有控制器，该控制器被构造为将所述多个处理单元分别根据所述图案形成的特性作为组进行管理，将一个或者更多个批次中包含的所述基板分配给所述组中的一个，并且如果在所述组中包含的处理单元处于待机状态时还存在分配给所述组的未处理的基板，则将所述未处理的基板分配给处于所述待机状态的处理单元并接着基于所述分配使所述处理单元对所述基板进行并行处理。

技术领域

本发明涉及光刻装置、光刻方法、光刻系统以及物品制造方法。

背景技术

在制造诸如半导体设备、MEMS等的物品的工序中包含的光刻工序中，光刻装置在工件(基板)上形成图案。光刻装置的示例包括压印装置，其使用模具对基板上的未固化的树脂进行成型，以在基板上形成树脂图案。例如，采用光固化方法的压印装置首先将未固化的可光固化树脂涂覆在基板上，接着在使树脂接触模具的状态下，在光的照射下对树脂进行固化。在树脂被固化之后，将基板与模具隔开(将基板与模具分离)，由此在基板上形成树脂图案。然而，与诸如曝光装置的其他光刻装置相比，这种压印装置的生产力低下。因此，日本特开第2011-210992号公报公开了如下群组(cluster)型压印装置，其包括多个压印模块(以下简称为“模块”)、以及在多个模块之间共用的运送机构等，以提高整体生产力。

然而，压印装置难以进行复杂的图案形状校正。此外，由于群组型压印装置难以使多个模块的特性一致，因此，如果严格检查图案的形状，则通过使用一个群组型压印装置形成的图案的形状在形成图案的各个模块之间不同。这意味着即使仅使用一个群组型压印装置来处理(形成图案)由固定数量的基板组(例如，25片晶圆)构成的批次，当所述批次由所述压印装置中包含的不同模块处理时，也可能发生图案转印误差。另一方面，为了保持高图案转印精度，可以考虑通过预先固定基板与各个模块之间的关系来操作群组型压印装置的方法。然而，在生产线中，以批次作为管理单位来对群组型压印装置给送、回收基板，并且批次中包含的基板的数量随生产的进行而减少。因此，单纯的固定基板与各个模块之间的关系可能容易使得模块处于没有基板被供给的待机状态，从而导致生产力降低。

因此，日本特开第2001-257141号公报公开了如下处理控制装置，其在关注多个装置的特性的同时，将所述多个装置分组为装置组，接着将管理目标从各个装置改变为装置组，以管理装置组与批次之间的关系。

在此，对于典型的生产线而言，将在日本特开第2001-257141号公报中公开的处理控制装置应用于控制群组型压印装置中包含的模块的控制器，是不容易的。换言之，为了通过设定基板作为管理单位来将处理控制装置应用到当前生产线，在工厂设备层面，需要更换MES(制造执行系统)以及厂内运送设备。在群组型压印装置中，在装置内的模块之间共用运送机构，因此，在各模块与装置外部之间无法独立地给送/回收基板，这也是无法将处理控制装置应用到当前生产线的另一原因。

发明内容

本发明提供一种在确保提高图案形成精度的同时有利于抑制生产力的降低的光刻装置。

根据本发明的第一方面，提供一种光刻装置，所述光刻装置包括：多个处理单元，所述多个处理单元中的各个被构造为对基板进行图案形成的处理；以及控制器，其被构造为将所述多个处理单元分别根据关于所述图案形成的特性作为组进行管理，将一个或者更多个批次中包含的所述基板分配给所述组中的一个，并且如果在所述组中包含的处理单元处于待机状态时还存在分配给所述组的未处理的基板，则将所述未处理的基板分配给处于所述待机状态的处理单元并接着基于所述分配使所述处理单元对所述基板进行并行处理。

通过以下(参照附图)对示例性实施例的描述，本发明的其他特征将变得清楚。

附图说明

图1示出了根据本发明的第一实施例的压印系统的配置。

图2示出了压印处理单元的配置。