[发明专利]发光显示器的像素界定层及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种发光显示器的像素界定层及其制作方法。

背景技术

OLED(有机发光二极管)的成膜方式主要有蒸镀制程和溶液制程。蒸镀制程在小尺寸应用较为成熟，目前该技术已经应用于量产中。而溶液制程OLED成膜方式主要有喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂、丝网印刷等，其中打印技术由于其材料利用率较高、可以实现大尺寸化，被认为是大尺寸OLED实现量产的重要方式。

喷墨打印工艺需要预先在基板的电极上制作像素界定层(Bank)，以限定墨滴准确的流入指定的子像素区，其中像素界定层上表面要求表面能较小的疏液型材料，从而保证墨滴不会溢出像素外造成像素间的混色；同时像素界定层的倾斜面上要求表面能大的亲液型材料，保证液体在像素内导电玻璃上铺展而不会有小孔。

目前的正梯形像素界定层，像素界定层疏水处理后有机层的铺展效果较差，在导电玻璃与像素界定层的边缘会出现未铺展的区域，蒸镀阴极后容易致阴阳极短路，造成漏电。而倒梯形像素界定层会使墨水在像素内的铺展变好，但是会造成阴极不连续发光面积缩小的现象，要避免这种现象，需增加额外的膜厚，或将阴极镀得很厚。在正梯形的基础上制备双层像素界定层可以避免单层像素界定层中的阴阳极短路现象，但同时有可能造成发光面积缩小的现象。

目前的打印工艺需要预先在基板的电极上制作像素界定层，以限定墨滴准确的流入指定的子像素区，其中，像素界定层上表面要求表面能较小的疏液型材料，保证墨滴不会溢出像素外造成像素间的混色；同时像素界定层的倾斜面上要求表面能大的亲液型材料，保证液体在像素内导电玻璃上铺展。另外发光显示器的发光效率也是目前材料瓶颈问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明的目的是提供一种保证像素内的墨水不会溢流到像素外部造成相邻子像素间的混色的发光显示器的像素界定层及其制作方法。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供一种发光显示器的像素界定层，所述像素界定层设于基板的导电层上，其包括基膜层，所述基膜层具有多个与各子像素单元发光区域相对应的开口，相邻所述开口之间形成间隔基体；每个所述间隔基体的上表面具有疏水性量子点材料，每个所述开口的侧壁具有亲水性量子材料。

其中，所述间隔基体的纵截面为正梯形或者倒梯形。

其中，所述间隔基体的高度为0.1～100μm。

其中，所述间隔基体的高度为0.5～5μm。

其中，每个所述开口的底壁具有亲水性量子点材料。

本发明提供一种发光显示器的像素界定层的制作方法，包括以下步骤：

S1，提供一个基板，在基板的导电层上涂覆一层光刻胶，曝光、显影、光刻刻蚀出多个与各子像素单元发光区域相对应的开口，使相邻的开口之间具有间隔基体，形成基膜层；

S2，在间隔基体的上表面喷涂疏水性量子点材料，在开口的侧壁或在开口的侧壁及底壁喷涂亲水性量子点材料；或者

在间隔基体的上表面和开口的侧壁喷涂亲水性量子点材料或者在间隔基体的上表面和开口的侧壁及底壁均喷涂亲水性量子点材料，将位于间隔基体的上表面的亲水性量子点材料改变成疏水性量子点材料；或者

在间隔基体的上表面和开口的侧壁喷涂疏水性量子点材料或者在间隔基体的上表面和开口的侧壁及底壁均喷涂疏水性量子点材料，将位于开口的侧壁或者开口的侧壁及底壁的疏水性量子点材料改变成亲水性量子点材料。

其中，所述步骤S1中，光刻胶采用负性光刻胶，曝光、显影、光刻刻蚀形成间隔基体，间隔基体的纵截面为倒梯形。

其中，所述步骤S1中，光刻胶采用正性光刻胶，曝光、显影、光刻刻蚀形成间隔基体，间隔基体的纵截面为正梯形。

其中，所述步骤S2中，使用置换官能基、超声乳化法或者光照的方式将疏水性量子点材料改变成亲水性量子点材料；或者使用置换官能基的方法将亲水性量子点材料改变成疏水性量子点材料。

其中，所述步骤S1中，基板采用导电玻璃。

(三)有益效果