[发明专利]曝光装置及其固定方法有效
| 申请号： | 201510122819.X | 申请日： | 2015-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN104977811B | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 桥本英幸;中谷猛 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 高迪 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 被固定部 保持体 排列元件 曝光装置 投影光学系统 感光材料 固定器具 光学元件 吸附保持 二维状 光成像 凹部 曝光 | ||
【权利要求书】：
1.一种曝光装置，对各像素调制来自光源的光，在感光材料上成像，其特征在于，具备；
排列元件，光学元件被排列成二维状；
保持体，保持所述排列元件；
投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到所述感光材料上；
被固定部，相对于所述投影光学系统的位置被固定，所述保持体固定在该被固定部上；
固定器具，将所述保持体固定到所述被固定部上；以及
凹部，用于在通过所述固定器具固定所述保持体时将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上，且被设置在所述保持体和所述被固定部的至少一方。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述排列元件通过将反射型或者透射型光学元件排列而成，
所述投影光学系统将由所述排列元件反射或透射的光成像。
3.一种固定方法，是在曝光装置中将保持体固定到相对于投影光学系统的位置被固定的被固定部上的固定方法，所述曝光装置对各像素调制来自光源的光而在感光材料上成像，所述曝光装置具备：排列元件，光学元件排列成二维状；所述保持体，保持该排列元件；以及所述投影光学系统，将通过了所述排列元件的光成像到感光材料上，所述固定方法的特征在于，包括：
将所述保持体通过吸附保持到所述被固定部上的第1工序；以及
利用固定器具将通过所述第1工序保持的所述保持体固定到所述被固定部上的第2工序。
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